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甘德昌;
无;
半导体; 等离子体蚀刻; 磁场;
机译:电感耦合等离子体蚀刻反应器中氯等离子体和多晶硅蚀刻的表征
机译:等离子体蚀刻过程的动力学研究。二。射频等离子体蚀刻反应器中电子性质的探针测量
机译:硅蚀刻过程中和蚀刻后,氯等离子体与涂有氯化硅的反应器壁之间的相互作用
机译:磁场增强等离子体反应器去除NO 2 sub>
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:微光电芯片反应器中增强磁场的光催化反应
机译:等离子体蚀刻反应器的反馈控制用于改善蚀刻均匀性
机译:电感耦合等离子体反应器中离子能量分布函数的模型蚀刻剖面;应用物理学报
机译:增强磁场等离子体蚀刻反应器
机译:磁场增强等离子体蚀刻反应器
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