超大规模集成电路硅片溶液清洗技术的进展

著录项

• 来源
  《化学进展》 |2000年第1期|103-107|共5页
• 作者

  张树永; 郭永榔; 曹宝成; 于新好;

  展开▼
• 作者单位

  山东大学化学学院,济南,250100;

  山东大学化学学院,济南,250100;

  山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术研究推广中心,济南,250100;

  山东大学光电子材料与器件研究所及国家电子清洗技术研究推广中心,济南,250100;

  展开▼
• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 化学;
• 关键词

  集成电路; 硅片; 溶液清洗;