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机译:使用纳米压印光刻技术开发用于高级电子设备的紫外线交联葡萄糖基抗蚀剂材料
Toyama Prefectural University, Imizu, Toyama 939-0398, Japan Osaka University, Toyonaka, Osaka 560-8531, Japan;
机译:用于紫外线固化纳米压印光刻的植物基抗蚀剂材料
机译:用于紫外线固化纳米压印光刻的植物基抗蚀剂材料
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:紫外固化纳米压印光刻中硬掩模层上生物质衍生的植物基抗蚀剂材料的开发
机译:纳米压印光刻技术在纳米电子器件中的应用。
机译:使用嵌段共聚物光刻技术创建用于纳米电子学的有源器件材料
机译:使用内部板对板工具和纳米压印光刻技术进行生物芯片应用的设备工艺开发
机译:开发用于超低1 / f噪声和低漏电流应用的先进电子材料和器件