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【24h】

Sacrificial film-assisted nanoimprint lithography

机译：牺牲膜辅助纳米压印光刻

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We have demonstrated a nanopattterning technique that combines the use of sacrificial film and nanoimprint lithography. The sacrificial film serves as a 'transient substrate' during the nanoimprinting steps. The use of a sacrificial film improves the patterning yield significantly because the de-molding is achieved by etching off the sacrificial film, instead of a mechanical de-molding as in conventional nanoimprint lithography. This patterning technique is an easy method to build up multilayer structure from a single type of polymer. The method is also highly versatile; both substrate supported and freestanding nanostructures can be easily achieved by this technique.
机译：我们已经展示了一种结合了牺牲膜和纳米压印光刻技术的纳米图案化技术。在纳米压印步骤中，牺牲膜充当“瞬态基板”。牺牲膜的使用显着提高了图案化成品率，因为通过蚀刻掉牺牲膜来实现脱模，而不是像传统的纳米压印光刻技术那样通过机械脱模来实现。这种图案化技术是一种由单一类型的聚合物构建多层结构的简便方法。该方法还具有很高的通用性。通过该技术可以容易地获得基材支撑的纳米结构和独立的纳米结构。

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