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机译:溅射对c-BN薄膜生长的温度影响
机译:射频磁控溅射过程中氮气分压对c-BN薄膜晶体结构和生长速率的影响
机译:射频磁控溅射沉积c-BN薄膜中离子轰击效应的量化
机译:退火温度对磁控溅射C-BN薄膜结构和力学性能的影响
机译:交流磁控溅射在低温下沉积的生物相容性氧化铝膜的性能。
机译:ZnF2掺杂的ZnO靶在不同溅射衬底温度下沉积F掺杂的ZnO透明薄膜
机译:磁控溅射从复合靶材上沉积的低氧化学计量外延ZrB2薄膜:沉积温度和溅射功率的影响
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
机译:可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
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