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Advances in metrology for x-ray and EUV optics III
Advances in metrology for x-ray and EUV optics III
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1.
Studies in Optimal Configuration of the LTP
机译:
LTP最佳配置的研究
作者:
Wayne R. McKinney
;
Mark Anders
;
Samuel K. Barber
;
Edward E. Domning
;
Yunian Lou
;
et al
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
slope measurement;
LTP;
long trace profiler;
optical metrology;
x-ray optics;
synchrotron radiation;
beamline;
2.
Present status of upgraded long trace profiler for characterization of high-precision X-ray mirrors at SPring-8
机译:
SPring-8上用于表征高精度X射线反射镜的升级长形轨迹轮廓仪的现状
作者:
Y. Senba
;
H. Kishimoto
;
H. Ohashi
;
H. Yumoto
;
S. Goto
;
et al
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Long trace profiler;
Surface profile measurement;
Optical metrology;
Stitching measurement;
X-ray mirror;
Synchrotron radiation;
3.
ESRF metrology laboratory: overview of instrumentation, measurement techniques and data analysis
机译:
ESRF计量实验室:仪器,测量技术和数据分析概述
作者:
Amparo Vivo Rommeveaux
;
Benjamin Lantelme
;
Raymond Barrett
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Long Trace Profiler;
x-ray mirrors;
interferometer;
Fizeau;
micro-stitching;
power spectral density function;
4.
Using the Power Spectral Density method to characterise the surface topography of optical surfaces
机译:
使用功率谱密度方法表征光学表面的表面形貌
作者:
Simon G. Alcock
;
Geoff D. Ludbrook
;
Tommy Owen
;
Richard Dockree
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
power spectral density;
optical specification;
figure error;
spatial frequency roughness;
5.
A double-pass Fizeau interferometer system for measuring the figure error of large synchrotron optics
机译:
双通道Fizeau干涉仪系统,用于测量大型同步加速器光学器件的图形误差
作者:
Geoff D. Ludbrook
;
Simon G. Alcock
;
Stewart Scott
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Fizeau interferometer;
optical metrology;
synchrotron mirrors;
figure error;
6.
Calibration of the modulation transfer function of surface profilometers with binary pseudo-random test standards: Expanding the application range
机译:
使用二进制伪随机测试标准校准表面轮廓仪的调制传递函数:扩大应用范围
作者:
Valeriy V. Yashchuk
;
Erik H. Anderson
;
Samuel K. Barber
;
Nathalie Bouet
;
Rossana Cambie
;
et al
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
surface metrology;
surface profilometer;
interferometric microscope;
modulation transfer function;
power spectral density;
calibration;
error reduction;
fabrication tolerances;
metrology of x-ray optics;
7.
New capabilities for predicting image degradation from optical surface metrology data
机译:
从光学表面度量数据预测图像退化的新功能
作者:
Narak Choi
;
James E. Harvey
;
Andrey Krywonos
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Scattering;
image degradation;
8.
In situ Long Trace Profiler for measurement of Wolter type-I mirror
机译:
原位Long Trace Profiler用于测量Wolter I型反射镜
作者:
Tian Gang Cui
;
Yong Gang Wang
;
Wen Sheng Ma
;
Bo Chen
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
surface metrology;
Long Trace Profiler;
in situ measurement;
slope error;
9.
At-wavelength Optical Metrology Development at the ALS
机译:
ALS的波长光学计量学发展
作者:
Sheng Yuan
;
Kenneth A. Goldberg
;
Valeriy V. Yashchuk
;
Richard Celestre
;
Iacopo Mochi
;
et al
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
at-wavelength;
optical metrology;
nano-focusing;
mirror alignment;
slope measurement;
interferometer;
x-ray optics;
synchrotron radiation;
10.
Characterization of the DT Ice Layer in a Fusion Capsule Using a Two-Dimensional X-Ray Shearing Interferometer
机译:
使用二维X射线剪切干涉仪表征聚变胶囊中的DT冰层
作者:
K.L. Baker
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Metrology;
X-rays;
shearing interferometer;
wave-front sensing;
11.
Study of 18.2 nm Schwarzschild microscope for plasma diagnostics
机译:
用于血浆诊断的18.2 nm Schwarzschild显微镜的研究
作者:
Xin Wang
;
Baozhong Mu
;
Yi Huang
;
Zirong Zhai
;
Shengzhen Yi
;
et al
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Schwarzschild microscope;
Laser produced plasma;
Mo/Si multilayer films;
12.
Developmental long trace profiler using optimally aligned mirror based pentaprism
机译:
使用基于五棱镜的最佳对准镜的发展性长迹线轮廓仪
作者:
Samuel K. Barber
;
Gregory Y. Morrison
;
Valeriy V. Yashchuk
;
Mikhail V. Gubarev
;
Ralf D. Geckeler
;
et al
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
optical metrology;
surface slope metrology;
long trace profiler;
LTP;
develomental LTP;
pentaprism;
mirror based pentaprism;
alignment;
13.
Large-field high-energy KB microscope with aperiodic multilayer
机译:
非周期性多层大视野高能KB显微镜
作者:
Shengzhen Yi
;
Baozhong Mu
;
Zhanshan Wang
;
Xin Wang
;
Li Jiang
;
et al
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Kirkpatrick-Baez microscope;
large field;
aperiodic multilayer;
ICF;
14.
Recent upgrades to the Diamond-NOM: a slope measuring profiler capable of characterizing the surface profile of large optics with subnanometre repeatability
机译:
Diamond-NOM的最新升级:斜率测量轮廓仪,能够表征亚微米级重复性的大型光学器件的表面轮廓
作者:
Simon G. Alcock
;
Kawal. J.S. Sawhney
;
Stewart Scott
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Diamond-NOM;
slope measuring profiler;
metrology;
synchrotron optics;
slope errors;
15.
Surface profile measurement of KB mirrors using Fizeau laser interferometer
机译:
使用Fizeau激光干涉仪测量KB反射镜的表面轮廓
作者:
J. Qian
;
L. Assoufid
;
C. Liu
;
B. Shi
;
W. Liu
会议名称:
《Advances in metrology for x-ray and EUV optics III》
|
2010年
关键词:
Fizeau interferometer;
stitching interferometer;
KB mirror;
profile coating;
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