等离子

摘要： 随着我国经济的发展,工业危险废物逐年增加。同时2020年初疫情以来,各地医疗废弃物的处理量剧增,危废集中处置的需求也日益增长。本文分析了某地危险废弃物现状,提出了焚烧、等离子熔融及物化相结合的综合处置方案,介绍了工艺流程,同时分析了项目蒸汽利用情况,为危废综合处置项目提供了借鉴和参考。

摘要： 目的观察改良电刀联合双极电凝在扁桃体切除术中的应用效果。方法选取2020年6月到2021年9月在嘉兴市第一医院(52例)及海宁市人民医院(48例)行扁桃体切除术治疗的患者100例,50例患者术中应用改良电刀联合双极电凝治疗,为观察组;另50例患者应用等离子刀治疗,为对照组。比较两组患者的手术时间、术中出血量、住院时间、术后疼痛程度(采用视觉模拟评分法)、术后伪膜脱落时间、术后并发症发生情况。结果观察组与对照组患者的手术时间[(7.74±1.37)min比(7.70±1.50)min]、术中出血量[(7.50±3.33)ml比(7.52±1.64)ml]、住院时间[(5.24±1.87)d比(5.12±0.85)d]比较差异均无统计学意义(均P>0.05)。两组患者术后第1、2、3、4、5天疼痛程度比较差异均无统计学意义(均P>0.05)。观察组患者术后伪膜脱落时间短于对照组[(15.82±0.72)d比(16.92±0.97)d,P0.05)。结论在扁桃体切除术中使用改良电刀联合双极电凝进行治疗,患者的术后疼痛情况、术后并发症与使用等离子刀进行手术相当,且术后伪膜脱落时间缩短,手术设备简单,值得推广应用。

摘要： 高质量的空气是国民健康的保障。在家庭环境中,室内往往由于通风不良、采光不足等问题,导致室内环境中有害物质的产生和积累,使空气质量下降的同时,直接或间接地损害人们的健康。以硫化氢气体为异味源,通过感官评价的方法,设计实验对比目前市面上常见的除异味技术,并总结了各自的优缺点。实验表明:光触媒及活性炭去除异味效果较为明显,负离子去除异味速度相对缓慢,而等离子在去除异味的同时产生副产物,需要平衡除味效果与副产物之间的关系,研究成果可为家电除异味功能的发展提供借鉴。

摘要： 文章综述了表面金属化功能纺织品的制备方法,重点介绍了真空磁控溅射金属镀膜功能纺织品的原理及应用现状,同时对表面金属化功能纺织品的发展方向进行了展望。

摘要： 为了降低初期投资,减少运行费用,便于运行期间管理,减少重大危险源,优化点火流程。通过对电厂点火系统设计优化,采用再增加一层等离子点火取代锅炉备用油枪燃油点火,达到了锅炉采用两层等离子从而实现无油点火效果。

摘要： 高可靠性要求的印制电路板,常要求进行孔内凹蚀以实现孔壁铜对内层铜具有三面包夹的效果增加互联可靠性。本文以实现凹蚀工艺的三个主要步骤:等离子、化学除胶和玻纤蚀刻对芯吸的影响研究为基础,通过SEM、微切片观察各流程后孔壁的微观形貌变化以及PTH后孔铜结构变化,分析了玻纤束及其周边树脂的变化与芯吸长度的关系,确定了各流程对芯吸长度的影响程度,相应地提出了改善芯吸效应的方法,为凹蚀工艺控制芯吸长度提供了有效的指导。

摘要： 目的对比两种热切法(等离子和电刀)手术方式在扁桃体切除术中的临床疗效。方法整理2018年5月至2020年5月间在本院采用热切法行扁桃体切除术病例资料,按照手术方式不同根据病人意愿分为等离子手术组和电刀组各31例,对比手术治疗效果和术后并发症。结果两组病人术前性别比例、平均年龄、术前扁桃体肿大程度、平均病程时间比较,P>0.05。观察组在手术时间、术中出血量、术后1天VAS评分、术后白膜完全脱落时间较对照组有显著优势,P0.05。结论等离子扁桃体切除术相对于传统的电刀扁桃体切除术具有相对微创、恢复快的优势,且同样可以达到良好的临床治疗效果,值得在临床上进一步推广应用。但由于等离子相对于传统电刀在价格上欠缺优势,在应用的同时也应充分尊重患者意见。

摘要： 目的 探讨鼻内窥镜下低温等离子翼腭联合鼻丘割治治疗变应性鼻炎(AR)的临床疗效及影响因素。方法 选取2017年1月至2020年6月西南医科大学附属中医医院确诊为AR且有手术适应证患者78例,对患者术前及术后1年的症状进行评价,并分析影响术后疗效的相关因素。结果 临床治疗总有效率为91.0%(71/78)。治疗前后患者临床症状评分比较,差异有统计学意义(P<0.05)。78例患者中,1例患者术后出现轻度干眼症状,1例患者术后出现流泪症状。单因素分析显示,有无吸烟史、有无鼻息肉、是否随访为影响术后疗效的因素。多因素logistic回归分析显示,是否随访是影响术后疗效的主要危险因素。结论 采用鼻内窥镜下低温等离子翼腭联合鼻丘割治方法治疗AR是可行的,配合术后定期随访,近期疗效值得肯定。

摘要： 国内外对于有机挥发性废气的处理,主要有回收技术和去除技术,适用的情况各不相同。低温等离子体耦合电催化降解技术是一种新兴的VOCs处理技术,具有低能耗、高净化率等优点。结合VOCs治理过程中遇到的实际问题,对低温等离子体耦合催化燃烧高效降解VOCs技术工程化应用的可行性进行了讨论,旨在提出一种能够充分整合企业现有资源、兼顾VOCs处理成本和处理效果的环保新技术。

摘要： 随着城市化建设和汽车行业的发展,栏杆类、管道类的器材使用量剧增,由于栏杆、管道等相接是采用相贯线切口,所以需要对管件进行相贯线切割加工。目前,相贯线切割机存在一些问题,如数控类型成本高、样板靠模等工艺落后。本文设计了一款能对小于300mm的不同管径的相贯线进行切割,实现快速且低耗要求的相贯线辅助切割装置,主要结构由切割执行机构、工件夹持机构组成,控制系统由12V适配器、步进电机驱动器、AT89C52单片机、降压模块、电机模块组成。该装置适用范围广、成本低,更能有效提高管件切割效率。

摘要： 采用SPH数值模拟方法,对两个同样大小的柱体超高速碰撞的过程进行数值模拟,验证数值模拟结果的可靠性.以原子碰撞理论为基础,在超高速碰撞过程中利用Thomas-Fermi(TF)方程计算超高速碰撞过程中SPH粒子的温度,以温度为依据判断是否发生汽化,对于发生汽化的部分考虑其产生的等离子体参数;并将化学反应速率方程代入三维SPH程序,通过数值模拟超高速碰撞过程能够拟合得到所产生的等离子体总电荷数,与经验公式对比来验证所提出的数值方法.通过不同碰撞初速度条件下所产生等离子体的模拟,可得到不同的等离子体参数,用以大致评估对电子设备的危害程度.

摘要： 氢化非晶硅属于用于薄膜晶体管制造使用和薄膜太阳能电池技术中最有前景的一类半导体,因为与晶体硅技术相比,氢化非晶体硅为基础的设备产品更加便宜.本文到调查和制备了更多类型的氧等离子源的氢化非晶体硅半导体的表面区域的超薄二氧化硅薄膜.目标重点在于调查氧化物/半导体界面性.以下三种基本类型的氧等离子体源首次应用于氢化非晶体硅的表面处理:i)与等离子阳极氧化有关的电感耦合等离子体;ii)射频等离子体作为积极氧离子的来源,用于等离子浸没离子注入过程;iii)高压下阻止绝缘介质放电.

摘要： 本文探讨了等离子体影响扩压叶栅性能的机理,提出了一种考虑等离子体能量注入、可较全面评价等离子体改善叶栅流动所带来收益的损失评价方法.研究表明,等离子体可有效控制栅内流动分离、减小尾迹掺混,30KV电压下叶栅总压及能量损失分别减小12.3%和9.6%,同时等离子体也增加了壁面附近摩擦损失,分离区前施加流动控制时其效果变弱;等离子体影响叶栅流动的机制可归结为诱导作用区上游流体加速降压、在作用区内构造局部顺压力梯度以及增加电极附近的气流速度,从能量角度看,其本质是电场力做功增加气体动能、压力能或者总能,而不只是注入动量.

摘要： 利用等离子束与激光束复合热源喷涂工艺(Laser Hybrid PlasmaSpraying,LHPS)在38CrMoAl基体上制备出了WC-10Co4Cr涂层,对涂层的显微硬度、结合强度、耐滑动摩擦磨损性能进行测试,通过光学显微镜、XRD、SEM等测试方法对涂层的显微组织、相组成、磨损后形貌等进行测试分析,研究涂层磨损机制,同时研究激光功率的变化对涂层组织性能影响,实验结果表明：复合热源喷涂WC-10Co4Cr涂层微观组织与性能随激光功率的大小而产生变化,当激光功率在2100W-2500W之间时,涂层与基体浸润性好,组织相对致密,结合强度高,其摩擦系数低且抗摩擦磨损性能好,其磨损机制为塑性切削与脆性剥落,以脆性剥落为主。

摘要： 采用等离子表面合金化技术在不锈钢表面制备含Nb合金层,分析了典犁渗层的显微组织形貌、成分分布及相结构,考察了含Nb含金层的腐蚀性能。结果表明,优化的工艺参数为：温度1100°C、工作气压80Pa、保温时间3h、源极电压900～700V、阴极电压600～450V。含Nb合金层厚度为22μm,表层Nb含量可达50%左右,呈梯度F降分布特征,表层主要由Nbc、Nb6C5、Cr2Nb、Fe2Nb等相构成。相比不锈钢基体,Nb合金化后耐晶问腐蚀性能和均匀腐蚀性能均提高。

摘要： 等离子清洗是刚挠结合板去钻污的最重要的一个过程,它影响着镀铜与孔壁表面之间的结合力.获得平整、均匀的表面是金属化孔可靠性的重要保证.本文将从等离子机的腔体空间的均匀性、等离子机蚀刻时间的均匀性等研究着手,为等离子蚀刻均匀性研究提供可靠的实验环境.通过等离子蚀刻刚挠结合板不同材料的实验,并利用均匀设计的方法获得刚挠结合板用聚酰亚胺、丙烯酸胶及环氧树脂等不同材料的蚀刻速率与等离子蚀刻参数之间的非线性拟合关系.最后再根据方程进行讨论,获得刚挠结合板用材料蚀刻均匀性的参数.根据实验中,实验分析中出现的各种现象,本文等离子蚀刻提出最合理的机理解释,并使用该机理定性纠正非线性拟合方程中的拟合偏差.

摘要： 研究了电感耦合等离子体光谱仪测定钴铬镍合金中主量元素钴、铬、镍的方法。试样以稀硫酸溶解,通过控制溶样过程、酸度、基体元素、仪器参数等,实现了在电感耦合等离子体光谱仪上分析钴铬镍合金中主量元素钴、铬、镍,得到了较为准确可靠的结果,方法回收率在98％～102％之间,钴、铬、镍测定结果的RSD分别为0.24％、0.40％、0.52％。

摘要： 钻孔后多层板的内层孔壁会有残留的树脂会阻碍孔金属化从而导致内层之间电性连接不良，所以，去钻污是保证内层连接的一种有效方法，传统的湿法去钻污越来越难以应对各种特殊材料材料的板件，比如说高Tg、特氟龙等。然而，等离子提供了一种有效的去除高Tg钻污的加工方式，本文将介绍如何应用等离子技术获得高Tg材料多层板5～50微米的凹蚀。

摘要： 从实际应用出发，将等离子体技术应用于铀矿探矿中。论文重点介绍矿山生产探矿手段选择，等离子破岩凿孔机理，等离子技术在铀矿床探矿中的地质效果和经济效果．

摘要： 本文从技术角度剖析了3D的流行原因，阐释了3D显示技术基本原理、主要技术和相关标准，并对比分析了用于电视领域的偏光和快门式3D显示技术的优缺点，对比分析了等离子和液晶帧顺序式3D电视的优缺点，最后以帧顺序式3D等离子电视的设计实例向读者分析了3D电视设计需求和要点。

摘要： 一种等离子体蚀刻方法，包括：第1工序，在惰性气体的等离子体、即第1等离子体(PL1)中将基板(S)吸附于单极式静电卡盘(15)上之后，停止生成第1等离子体；和第2工序，在卤素类蚀刻气体的等离子体、即第2等离子体(PL2)中对基板(S)进行了蚀刻之后，停止生成第2等离子体。然后，在第1工序中，在从单极式静电卡盘(15)向基板(S)施加了正电压的状态下停止生成第1等离子体(PL1)，在第2工序中，在从单极式静电卡盘(15)向基板(S)施加了负电压的状态下停止生成第2等离子体(PL2)。

摘要： 本发明涉及一种等离子体产生装置，它包括阳极、阴极和细长等离子体槽道，该等离子体槽道基本沿从所述阴极至所述阳极的方向延伸。等离子体槽道有节流部分，该节流部分布置在所述等离子体槽道中并在所述阴极和布置于所述阳极中的出口开口之间。所述节流部分将所述等离子体槽道分成高压腔室和低压腔室，该高压腔室位于节流部分的、最靠近阴极的一侧，并有与等离子体槽道的纵向方向横切的第一最大截面表面，该低压腔室开口于所述阳极中，并有与等离子体槽道的纵向方向横切的第二最大截面表面，所述节流部分有与等离子体槽道的纵向方向横切的第三截面表面，该第三截面表面小于所述第一最大截面表面和所述第二最大截面表面。而且，至少一个中间电极布置在所述阴极和所述节流部分之间。本发明还涉及等离子体外科手术装置、该等离子体外科手术装置在外科手术中的应用以及产生等离子体的方法。

摘要： 一种用于电弧焊炬、等离子焊炬或者等离子割炬的耐磨部件，其特征在于，耐磨部件或者耐磨部件的至少一个部分或者至少一个区域由银和锆的合金、银和铪的合金或者银和锆及铪的合金制成。

摘要： 本发明涉及一种用于等离子电弧炬头、激光切割头或等离子激光切割头的喷嘴，由这种类型的喷嘴及喷嘴保护帽构成的组件，由这种类型的喷嘴及电极构成的组件，包括这种类型的喷嘴和/或这种类型的组件的等离子电弧炬头、激光切割头或等离子激光切割头，包括这种类型的等离子电弧炬头的等离子炬，包括这种类型的喷嘴和/或这种类型的组件的激光切割头，包括这种类型的喷嘴和/或这种类型的组件的等离子激光切割头，使用等离子炬的等离子切割方法，使用激光切割头的激光切割方法以及使用等离子激光切割头的等离子激光切割方法。

摘要： 这里所公开的是一种用于在等离子体室中生成等离子体的等离子体室设置方法。制备多个等离子体线圈，包括第一等离子体源线圈、第二等离子体源线圈和第三等离子体源线圈，该第二等离子体源线圈在其中心部分具有高于第一等离子体源线圈蚀刻速率的蚀刻速率，该第三等离子体源线圈在其边缘部分具有高于第一等离子体源线圈蚀刻速率的蚀刻速率。将第一等离子体源线圈设置在等离子体室上，并蚀刻测试芯片。对测试芯片的每个位置的蚀刻速率进行分析，并基于分析结果利用第二等离子体源线圈或第三等离子体源线圈代替第一等离子体源线圈。

摘要： 本发明涉及一种用于特别是气冷的等离子燃烧器(10)的，特别是等离子切割燃烧器的电极(30)，其中电极包括：长形的电极主体(30b)，其包括共同限定纵向轴线L的开放端(34)和封闭端(33)，和位于封闭端(33)中的发射插入件(31)，其中电极主体(30b)中的空腔(32；32a、32b)从电极主体的开放端(34)开始，朝向封闭端(33)的方向延伸，并且空腔通过其壁(30a)中的或者封闭端(33)的前部实心部段中的至少一个开口(32c、32d)，与电极主体的相关于纵向轴线径向的外侧(37)流体连通；一种由该电极和冷却管构成的布置系统；一种气体导向装置；一种包括该电极的等离子燃烧器；一种用于等离子燃烧器中的气体导向的方法；和一种用于运行等离子燃烧器的方法。

摘要： 本发明涉及平面型等离子体诊断装置，其特征在于，包括：发送天线，用于向等离子体施加频率可变的微波；接收天线，用于从上述等离子体接收上述微波；以及本体部，以相互绝缘的方式包围上述发送天线与上述接收天线，上述发送天线的用于施加微波的上部面与上述接收天线的用于接收微波的上部面为平面型，上述发送天线与上述接收天线的上述上部面的侧面相互相向。

摘要： 一种等离子体蚀刻方法，包括：第1工序，在惰性气体的等离子体、即第1等离子体(PL1)中将基板(S)吸附于单极式静电卡盘(15)上之后，停止生成第1等离子体；和第2工序，在卤素类蚀刻气体的等离子体、即第2等离子体(PL2)中对基板(S)进行了蚀刻之后，停止生成第2等离子体。然后，在第1工序中，在从单极式静电卡盘(15)向基板(S)施加了正电压的状态下停止生成第1等离子体(PL1)，在第2工序中，在从单极式静电卡盘(15)向基板(S)施加了负电压的状态下停止生成第2等离子体(PL2)。

摘要： 根据本发明实施例的等离子体发生器设置为通过防止等离子体到电弧的转变以近大气压的压力产生高密度和稳定的等离子体。该等离子体发生器包括用于设置基板的板状下电极；以及在板状下电极上的圆柱旋转电极，其中圆柱旋转电极包括导电主体和绝缘屏蔽层，导电主体连接到电源且包括在导电主体的外圆周表面上的多个毛细管单元；绝缘屏蔽层由绝缘材料或电介质材料制成，暴露多个毛细管单元的下表面，并且屏蔽其它部分。

摘要： 本发明的目的在于提供使利用转动等离子体进行的等离子体处理稳定且可以控制、并可以提高等离子体处理质量的等离子体流生成方法、等离子体处理方法、等离子体发生装置和使用它的等离子体处理装置。4个象限（Z1～Z4）中的各频率被设定为7、15、6、20Hz。利用该频率可变，可以使被分割成4个的转动角区域中的等离子体的转动速度不同。由于等离子体（P2、P4）的周向转动速度比等离子体（P1、P3）快，所以可以照射边描绘圆轨道（C）边从等离子体（P1）到（P2）、（P3）、（PB4）周期性变速转动的转动等离子体，可以在第一象限（Z1）～第四象限（Z4）中实施均匀的成膜处理。