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日経マイクロデバイス
>2006年第257期
日経マイクロデバイス
中文名称:日经微设备
ISSN:
1349-4619
出版周期:
发文量:1516
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1.
遠心スプレー洗浄と極低温エアロゾル洗浄を展開45nm以降に向けた洗浄技術の課題を解決:高温リン酸のリサイクル・システムも開発,連続稼働を可能に
机译:
开发离心式喷雾清洁剂和低温气溶胶清洁剂解决45纳米及以上的清洁技术问题:开发高温磷酸回收系统,实现连续运行
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
2.
8月の台湾大型TFT液晶パネル出荷数量が前月比で+21%テレビ向けが激増
机译:
台湾8月大尺寸TFT LCD面板的电视出货量增长了21%
作者:
中根 康夫
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
3.
技術力とチームワークを評価パナソニックFAが実装分野で受賞
机译:
松下FA因其技术能力和团队合作而在安装领域获奖
作者:
中島 和宏
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
4.
STARCが新設計フロー構築へ65nmと45nmに焦点: DFM重視でバラつき対応力を向上
机译:
STARC建立新的设计流程专注于65nm和45nm:专注于DFM以提高可变性
作者:
小島 郁太郎
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
5.
統計的解析によるバラつき対策を早期実用化チップの特徴に合わせたツールを開発
机译:
开发一种与芯片特性相匹配的工具,该工具已在统计分析的早期措施中付诸实践,以应对变化
作者:
松岡 英俊
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
6.
LSIの性能を微細化に頼らず向上高速化と低電力化に寄与
机译:
在不依靠小型化的情况下提高LSI性能有助于提高速度和降低功耗
作者:
中嶋 定夫
;
吉見 信
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
7.
多彩な分野で活躍するソニーのカメラシステム。その競争力はカメラ信号処理LSIの技術力に支えられている
机译:
索尼摄像机系统活跃在各个领域。相机信号处理LSI的技术实力为其竞争力提供了支持
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
8.
SiP技術で光る日本のベンチャ
机译:
日本企业借助SiP技术大放异彩
作者:
大嶋 洋一
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
9.
装置間連携を強みに競合引き離す
机译:
利用设备间的竞争作为优势
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
10.
LSIテスターの新会社ヴェリジー最先端デバイスのニーズに迅速対応: 高速SoCやMCPメモリ向けシステムを積極展開
机译:
新的LSI测试仪公司Velizy迅速响应尖端设备的需求:积极开发用于高速SoC和MCP存储器的系统
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
11.
半導体業界の変調その本質を読む: Intelの不調,相次ぐ企業買収の深層
机译:
半导体行业的调整阅读要点:英特尔的萧条,更深层次的企业收购
作者:
三宅 常之
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
12.
“成熟化”がキーワードとなるエレクトロニクス市場で、エンジニアはどう動くべきか
机译:
工程师应该如何在以“成熟度”为关键词的电子市场中前进
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
13.
「SU8」市場,2010年に4倍
机译:
“ SU8”市场在2010年翻了两番
作者:
Jean-Christophe ELOY
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
14.
拝啓 半導体経営者殿
机译:
敬启者,
作者:
牧本 次生
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
15.
刻々と変貌するマイクロンのDRAM事業用途別の開発を強化,果敢に新市場を開拓
机译:
美光的DRAM业务不断变化,通过应用程序加强开发并大胆开拓新市场
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
16.
「いかに技術を生み出すか」
机译:
“如何创造技术”
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
17.
CMOSセンサ市場をリードするマイクロン先進技術と強力な生産体制を背景に前進
机译:
在领先于CMOS传感器市场的美光公司的先进技术和强大的生产系统的背景下前进
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
18.
「古くて新しい問題『Snウィスカ』」発生メカニズム解明に挑戦:最新鋭の分析装置を駆使して多角的に現象を観察
机译:
阐明“新旧问题”“锡晶须”产生机理的挑战:使用最新的分析设备从各个角度观察现象
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
19.
開発が本格化する45nm量産プロセス技術歩留り確保と信頼性向上に向けた取り組みが加速
机译:
大规模开发45nm量产制程技术加快努力以确保良率并提高可靠性
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
20.
GPIBからLXIへ、新たな計測システムのスタンダード
机译:
从GPIB到LXI,新测量系统的标准
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
21.
進化するインライン用X線膜厚・密度モニターいよいよ45nmプロセス対応機が製品へ: Hf,Ta,Wを高感度で検出できるAu-X線ターゲットを導入
机译:
不断发展的在线X射线膜厚/密度监控器最终成为与45 nm工艺兼容的产品:引入可以高灵敏度检测Hf,Ta,W的Au-X射线靶
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
22.
認識不足や不注意から技術が流出模倣の流れは止められない
机译:
由于缺乏认识和粗心而导致的技术外流仿制流无法停止
作者:
木村 雅秀
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
23.
45nm量産開始は2007年第3四半期台湾TSMCが技術ロードマップを発表: 設計技術は「65nmの延長線上で大丈夫」
机译:
45nm批量生产将于2007年第三季度开始台湾台积电宣布技术路线图:设计技术“向65nm扩展”
作者:
木村 雅秀
;
小島 郁太郎
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
24.
耐環境性と故障解析・評価に焦点デバイス製造の信頼性高める新技術
机译:
专注于环境抵抗力和故障分析/评估增强设备制造可靠性的新技术
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
25.
Siチップで1Tビット/秒へ複数波長のレーザー集積手法を開発
机译:
利用Si芯片开发1 Tbit / s多波长激光集成方法。
作者:
大下 淳一
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
26.
「遅い審査ほど質が高い」は誤解特許庁と企業の双方で改革が必要
机译:
误解是“审查越晚,质量越高”,这需要日本特许厅和公司进行改革
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
27.
微細化に向けた先進技術を提供Low-k材の最適化や抵抗値低減に貢献: 多彩なプロセスを実現できるUVキュアシステム「SOLA」
机译:
提供用于小型化的先进技术有助于优化低k材料和降低电阻值:可以实现各种工艺的UV固化系统“ SOLA”
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
28.
MEASUREMENT/CONTROL SOLUTIONS 計測·制御ソリューシヨン
机译:
测量/控制解决方案
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
29.
「SEDの画質を超えるものはない」
机译:
“没有什么超出SED图像质量的”
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
30.
バッチ式と枚葉式を両輪展開45nm以降の量産プロセスを実現: 「FC-3000/3100」と「SU-3000」でソリューションを構築
机译:
在两个轮子上批量部署和单晶圆类型部署在45nm之后实现批量生产过程:使用“ FC-3000 / 3100”和“ SU-3000”构建解决方案
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
31.
『CTF:Charge Trap Flash』
机译:
『CTF:陷阱陷阱闪光』
作者:
大下 淳一
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
32.
MEMSデバイスの新規参入民生機器分野で相次ぐ: 「CEATEC JAPAN 2006」で村田,独Boschが披露
机译:
MEMS器件的新进入连续的消费类产品:村田和博世在2006年CEATEC JAPAN上亮相
作者:
三宅 常之
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
33.
可視化技術を駆使して信頼性向上注目集まるマイクロフォーカスX線CT: Pbフリー・ハンダのボイドの構造解析も可能に
机译:
利用可视化技术提高可靠性Microfocus X射线CT引起了人们的关注:能够对无铅焊料的空隙进行结构分析
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
34.
「信頼性」が半導体の価値基準に一段と重要さを増す故障解析技術: 走査透過電子顕微鏡とナノ・プロービング技術を提供
机译:
在半导体价值标准中,“可靠性”变得越来越重要的故障分析技术:提供了扫描透射电子显微镜和纳米探测技术
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
35.
8月の半導体世界売上高205億米ドルで過去最高記録DRAMは前年比31.4%増
机译:
8月半导体销售额创纪录的205亿美元,DRAM同比增长31.4%
作者:
小島 郁太郎
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
36.
新体制でフラッシュ市場に挑むマイクロン供給と開発を強化,トップ目指して動きを加速
机译:
加强微米的供应和开发,以新系统挑战闪存市场,加速迈向顶级市场
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
37.
Spansionが4ビット/セル品を量産へコスト競争力でNAND市場の侵食狙う: リムーバブル・メディア市場も射程に
机译:
Spansion进入4位/单元产品的批量生产成本竞争力旨在侵蚀NAND市场:可移动媒体市场也在范围内
作者:
大下 淳一
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
38.
会場を移して規模を一段と拡大最新の開発成果や製品が続々と登場
机译:
通过移动场地扩大规模最新的开发成果和产品层出不穷
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
39.
コスト競争から逃げない,松下のPDP戦略
机译:
松下的PDP战略无法摆脱成本竞争
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
40.
知財強化だけでは不十分真似されにくい“ものづくり”へ
机译:
朝着仅靠强化知识产权就难以模仿的“制造业”迈进
作者:
木村 雅秀
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
41.
ウェハエッジの歩留まり
机译:
晶圆边缘良率
作者:
Frank Burkeen
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
42.
量産に向け最終段階の液浸露光技術32nm狙う高屈折率材料にも期待: EUV露光はアルファ機導入で開発加速
机译:
进入32nm量产的最终阶段的浸入式曝光技术对高折射率材料的期望:EUV曝光通过引入alpha机器来加速开发
作者:
木村 雅秀
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
43.
着々と進化する金属不純物自動測定モニターSPMなど高濃度の酸を含ぢ薬液の管理も可能に: 既存のプラットフォームを生かして多機能化, APCに展開
机译:
还可以管理不断发展的金属杂质自动测量监控器SPM和其他包含高浓度酸的化学溶液:利用现有平台进行多功能化,并部署到APC
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
44.
FEOLへの展開が進ぢ枚葉式洗浄装置微細化に向けてプロセス開発を加速:アッシングレスのレジスト剥離など独自技術を開発
机译:
加快单晶片清洗设备小型化的工艺开发:开发无灰抗蚀剂剥离等原始技术
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
45.
未来の映像生活や医療現場を驚くほど変えていく技術をここから発信していく
机译:
从这里开始,我们将传播将惊人地改变未来图像生活和医学领域的技术
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
46.
ネットワークが半導体産業を変質事業モデル再構築は避けられない
机译:
网络正在改变半导体行业,不可避免地要重建商业模式。
作者:
田村 與司光
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
47.
動作原理の提案相次ぐReRAM記憶素子材料による分類が明確に: 産総研がLSIメーカー集めた研究会を開催
机译:
工作原理的建议通过ReRAM存储元件材料澄清分类:AIST拥有一个由LSI制造商召集的研究小组
作者:
大下 淳一
期刊名称:
《日経マイクロデバイス》
|
2006年第257期
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