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霍尔器件

霍尔器件的相关文献在1985年到2022年内共计268篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、自动化技术、计算机技术、电工技术 等领域,其中期刊论文106篇、会议论文16篇、专利文献180110篇;相关期刊81种,包括分子诊断与治疗杂志、仪表技术与传感器、电子产品世界等; 相关会议15种,包括第十五届冶金及材料分析测试学术报告会(CCATM2010)、2007南昌无损检测国际会议——无损检测技术国际研讨会暨无损检测高等教育发展论坛、电磁检测学术交流会、中国电工技术学会电力电子学会2004年第九届学术年会等;霍尔器件的相关文献由465位作者贡献,包括郑一阳、卢小品、卢朝等。

霍尔器件—发文量

期刊论文>

论文:106 占比:0.06%

会议论文>

论文:16 占比:0.01%

专利文献>

论文:180110 占比:99.93%

总计:180232篇

霍尔器件—发文趋势图

霍尔器件

-研究学者

  • 郑一阳
  • 卢小品
  • 卢朝
  • 栗帅
  • 魏榕山
  • 景士平
  • 李劲劲
  • 梁平
  • 涂有瑞
  • 王雪深
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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年份

    • 桂美将; 周小虎; 谢晓亮; 刘市祺; 李浩; 王晋利; 侯增广
    • 摘要: 为了探究适用于柔性机器人触力觉感知装置的磁场计算方法,利用弹性橡胶与霍尔器件设计带有凸起结构的感知装置.利用环式Halbach阵列的磁场方程,对形变后装置的磁场进行计算.为了验证所提出的计算方法,基于COMSOL Multiphysics平台构建并求解不同形变下感知装置的有限元仿真模型.通过对比理论计算结果与模型仿真结果,验证了所提出的计算方法在不同形变下均有较好的适用性.进一步的数据拟合表明,随着仿真网络的不断细化,仿真值逐渐逼近理论值,最小误差为3.18%,证明二者具有较高的一致性.
    • 华国环; 董文锋; 费敬敬; 刘清惓
    • 摘要: 设计了一种基于模拟选择开关和故障字典的数字芯片检测系统,主控芯片采用MSP 430单片机,实现了对常见数字芯片的自动化故障检测,可以检测数字芯片是否存在短路、开路和逻辑功能错误等故障,并可确定具体故障位置.芯片的短路、开路检测基于数字芯片内部的二极管钳位保护电路,通过霍尔电流传感器和ADC进行检测.测量结果显示,该系统的测量准确率高,测量速度快,功耗低,可实现电池供电和手持化.
    • 武利翻; 苗瑞霞; 商世广
    • 摘要: 用分子束外延技术将高灵敏度的InAs/AlSb量子阱结构的Hall器件赝配生长在GaAs衬底上.设计了由双δ掺杂构成的Hall器件的新结构,有效地提高了器件的面电子浓度.与传统的没有掺杂的InAs/AlSb量子阱结构的Hall器件相比,室温下器件电子迁移率从15000 cm2·V-1·s-1提高到16000 cm2·V-1·s-1.AFM测试表明材料有好的表面形态和结晶质量.从77 K到300 K对Hall器件进行霍尔测试,结果显示器件不同温度范围有不同散射机构.双δ掺杂结构形成高灵敏度、高二维电子气(2DEG)浓度的InAs/AlSb异质结Hall器件具有广阔的应用前景.%The highly sensitive Hall device made of InAs/AlSb quantum-well structures pseudomorphically grown on the GaAs substrate by molecular beam epitaxy has been developed. The advanced InAs/AlSb Hall device includes double δ-doped layers, which significantly elevate the sheet electron density. Moreover, electron mobility is increased from 15000 cm2 ·V-1 ·s-1 to 16000 cm2 ·V-1 ·s-1 at room temperature, compared with that of an unintentional-ly doped AlSb/InAs Hall device. AFM measurement results show a smooth surface morphology and high crystalline quality of the samples. The quantum Hall device can be operated in the temperature ranging from 77 K to 300 K. Hall measurements show different scattering mechanism on electron mobility at temperature range. The advanced highly-sensitive InAs/AlSb heterostructure two-dimensional electron gases(2DEG) Hall device including double δ-doped layers is promising in near future.
    • 武利翻; 苗瑞霞; 李永峰; 杨小峰
    • 摘要: An unintentionally doped AlSb/InAs quantum well ( QW ) structure and a Si-δ doped quantum well structure on GaAs (001) substrates were grown by molecular beam epitaxy (MBE). The dependence of sheet elec-tron density and electron mobility on the measurement temperature were investigated. It is found that electron mobility as high as 25000 cm2?V-1?s-1 has been achieved for 300 K in the Si-δdoped quantum well structure. The Hall devices with high sensitivity and good temperature stability were fabricated based on the Si-δdoped AlSb/InAs quan-tum well structures. Their sensitivity is markedly superior to Hall devices of an unintentionally doped AlSb/InAs quantum well.%用分子束外延在GaAs(001)衬底上生长了两个量子阱结构的霍尔器件,一个是没有掺杂的量子阱结构,一个是Si-δ掺杂的量子阱结构.研究了霍尔器件的面电子浓度和电子迁移率与温度的关系.结果表明,在300 K下,Si-δ掺杂的量子阱结构的电子迁移率高达25000 cm2?V-1?s-1,并且该器件输入电阻和输出电阻较低.同时,Si-δ掺杂的量子阱结构霍尔器件的敏感度好于没有掺杂的量子阱结构霍尔器件.
    • 胥汇瓅; 金文芳; 吴珍
    • 摘要: 对飞轮使用的霍尔器件与转速测量精度之间的关系进行分析,提出了一种基于增加霍尔器件提高飞轮转速测量精度的方法,并根据该方法确定了多霍尔器件安装布局的设计原则和公式.%The relation between Hall position sensors and measurement precision of flywheel speed was analyzed in this paper, and a method of increasing measurement precision was presented. The construction, design formula and principle of layout of more Hall sensors in flywheel was established.
    • 高晓虎; 王昆林
    • 摘要: 随着电子技术的发展,霍尔效应不单是测定半导体材料电学参数的主要手段,利用霍尔效应制成的霍尔器件凭借其结构简单、频率响应宽(高达10GHz)、寿命长、可靠性高等优点,已广泛应用于非电量测量、自动控制和信息处理等方面,随着半导体物理学的迅速发展,霍尔系数和电导率的测量已成为研究半导体材料的主要方法之一,通过实验测量半导体材料的霍尔系数和电导率可以判断材料的导电类型、载流子浓度、载流子迁移率等主要参数。本文重点对霍尔电压(VH)与工作电流(IS)、霍尔电压(VH)与磁场的关系进行实验探索,进一步深入了解霍尔效应的机理。
    • 摘要: 发信盘作为数控车床刀架上的重要配置,在机床运行过程中起着至关重要的作用,一旦出现故障很可能造成工件报废,甚至造成卡盘与刀架碰撞的事故。本文针对数控车床四工位电动刀架最易出现故障的发信盘入手,阐述了发信盘的工作原理,内部结构,核心元件,故障现象及维修的相关知识。
    • 岳小萍; 秦鑫
    • 摘要: 根据电相互作用原理,从微观角度分析了霍尔电势差,导体、绝缘体和半导体两端电势差产生的机理。认为在外电场的作用下价电子吸收外电场能量,并将其转化为晶格势场中的电势能,从而导致价电子在晶格势场中的电势降落(价电子远离原子核),因此,在霍尔元件上垂直于外电场方向上存在霍尔电势差,导体、绝缘体、半导体两端的电势差都是沿外电场方向所有价电子在晶格势场中的电势降落的总和。同时首次给出了空穴形成的物理图象:价电子由电负性弱的原子向电负性强的原子转移形成空穴。也首次给出了反映晶体各向异性的方法——测量非外电场方向绝缘体、半导体两点之间的电势差。%According to electrical interaction principle, mechanisms of Hall potential difference and difference of conductor, insulator and semiconductor from micro perspective are analyzed. It is thought that valence electron absorbs energy from external electric field and converts to positional energy of lattice potential field, thus the potential decreases in lattice potential field of electron (valence electron away from nucleus). So in Hall element exists Hall potential perpendicular to direction of external electric field. Potential of conductor, insulator and semiconductor are all sum of potential descendent of electron in lattice potential field. Physical image is provided at first time, valence electron transfers from weak to strong electro negative atom that causes hole formation. And method reflecting crystal anisotropy, measuring potential between two points of insulator, semiconductor of non external electric field direction, is given.
    • 岳小萍; 秦鑫
    • 摘要: 根据电相互作用原理,从微观角度分析了霍尔电势差,导体、绝缘体和半导体两端电势差产生的机理.认为在外电场的作用下价电子吸收外电场能量,并将其转化为晶格势场中的电势能,从而导致价电子在晶格势场中的电势降落(价电子远离原子核),因此,在霍尔元件上垂直于外电场方向上存在霍尔电势差,导体、绝缘体、半导体两端的电势差都是沿外电场方向所有价电子在晶格势场中的电势降落的总和.同时首次给出了空穴形成的物理图象:价电子由电负性弱的原子向电负性强的原子转移形成空穴.也首次给出了反映晶体各向异性的方法一一测量非外电场方向绝缘体、半导体两点之间的电势差.
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