摘要:通过固体扩散法(SSD)将一定配比的纳米二氧化钛负载在人造沸石上制成复合光催化剂,研究了不同配比的复合光催化剂在32W紫外灯照射下对水中土霉素的去除效果,比较了UV、UV/TiO2(P25)、UV/沸石及UV/复合光催化剂对土霉素的降解效果,探讨了复合光催化剂投加量、土霉素起始浓度、起始pH值对降解效果的影响.结果表明:10%的纳米二氧化钛和90%的人造沸石制成的复合光催化剂材料在UV照射下对土霉素及TOC具有最佳的去除效果,对于初始浓度为50 mg/L的土霉素水溶液,复合光催化剂投加300 mg/L,UV照射150 min即可将土霉素去除99%以上,其去除效果不受土霉素起始浓度的影响,在酸性和弱碱性环境下(pH=2~10), UV/复合光催化剂120 min对土霉素的去除效果均可达95%以上,但pH>10后,其去除效果迅速下降.