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1.
The Next Phase for Immersion Lithography
机译:
浸没式光刻的下一阶段
作者:
Harry Sewell
;
Jan Mulkens
;
Diane McCafferty
;
Louis Markoya
;
Bob Streefkerk
;
Paul Graeupner
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
2nd-generation immersion fluid;
high refractive index;
hyper-numerical aperture;
2.
The Optics of Photomasks: From Shadowy Past to Scattered Future
机译:
光掩膜的光学:从过去的阴影到分散的未来
作者:
Christopher J. Progler
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
photomask;
lithography;
scattering;
immersion lithography;
resolution enhancement;
3.
Validity of the Hopkins approximation in simulations of hyper NA (NA > 1) line-space structures for an attenuated PSM mask
机译:
霍普金斯近似在衰减PSM掩模的超NA(NA> 1)线空间结构模拟中的有效性
作者:
reas Erdmann
;
Giuseppe Citarella
;
Peter Evanschitzky
;
Hans Schermer
;
Vicky Philipsen
;
Peter De Bisschop
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
hyper NA;
immersion lithography;
simulation;
attenuated PSM;
hopkins approximation;
4.
Studies of Consequences of Photo-Acid Generator Leaching in 193-nm Immersion Lithography
机译:
193 nm浸没式光刻中光酸发生剂浸出的后果研究
作者:
V. Liberman
;
M. Switkes
;
M. Rothschild
;
S. T. Palmacci
;
Lincoln Laboratory
;
A. Grenville
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
5.
Compensation of high-NA mask topography effects by using object modified Kirchhoff model for 65 and 45nm nodes
机译:
使用对象修改的Kirchhoff模型补偿65和45nm节点的高NA掩模形貌效应
作者:
Yuri Aksenov
;
Peter Zbergen
;
Masaki Yoshizawa
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
optical lithography;
high NA;
polarization;
mask topography;
OPC;
6.
Current status and future prospect of immersion lithography
机译:
浸没式光刻技术的现状与未来展望
作者:
Soichi Owa
;
Hiroyuki Nagasaka
;
Katsushi Nakano
;
Yasuhiro Ohmura
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
flare;
overlay;
defectivity;
high index;
nonlinear patterning;
double patterning;
7.
193-nm Immersion Photomask Image Placement in Exposure Tools
机译:
曝光工具中的193 nm浸没式光掩模图像放置
作者:
Eric Cotte
;
Benjamin Alles
;
Timo Wel
;
Gunter Antesberger
;
Silvio Teuber
;
Manuel Vorwerk
;
reas Frangen
;
Frank Katzwinkel
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
optical mask;
registration;
charging;
mask chucking;
overlay;
wafer exposure;
8.
Aerial image based lens metrology for wafer steppers
机译:
晶圆步进机的基于航空影像的镜头计量
作者:
Peter Dirksen
;
Joseph J.M. Braat
;
Augustus J.E.M. Janssen
;
Ad Leeuwestein
;
Tomoyuki Matsuyama
;
Tomoya Noda
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
optical lithography;
aberrations;
PMI;
extended nijboer-zernike theory;
9.
Alt- Phase Shift Mask Technology for 65nm Logic applications
机译:
适用于65nm逻辑应用的Alt-相移掩模技术
作者:
Kishore K. Chakravorty
;
Sven Henrichs
;
Wei Qiu
;
Joas L. Chavez
;
Yi-Ping Liu
;
Firoz Ghadiali
;
Karmen Yung
;
Nathan Wilcox
;
Mary Silva
;
Jian Ma
;
Ping Qu
;
Brian Irvine
;
Henry Yun
;
Wen-Hao Cheng
;
Jeff Farnsworth
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
10.
High Transmission Mask Technology for 45nm Node Imaging
机译:
用于45nm节点成像的高透射掩模技术
作者:
Will Conley
;
Nicolo Morgana
;
Bryan S. Kasprowicz
;
Mike Cangemi
;
Matt Lassiter
;
Lloyd C.Litt
;
Marc Cangemi
;
R Cottle
;
Wei Wu
;
Jonathan Cobb
;
Young-Mog Ham
;
Kevin Lucas
;
Bernie Roman
;
Chris Progler
会议名称:
《》
|
2006年
11.
From Optical Proximity Correction to Lithography-Driven Physical Design (1996-2006): 10 years of Resolution Enhancement Technology and the roadmap enablers for the next decade
机译:
从光学接近度校正到光刻驱动的物理设计(1996-2006年):十年的分辨率增强技术和下一个十年的路线图促成因素
作者:
Luigi Capodieci
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
resolution enhancement techniques;
optical proximity correction;
design for manufacturing;
design rule manual;
design regularity;
layout printability verification;
pattern-matching;
yield optimization;
12.
Experimental evaluation of Bulls-Eye illumination for assist-free, random contact printing at sub-65nm node
机译:
Bulls-Eye照明在65nm以下节点的无辅助随机接触印刷的实验评估
作者:
Jo Finders
;
re Engelen
;
Geert Venberghe
;
Joost Bekaert
;
Tim Chen
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
CH printing;
off-axis illumination;
source optimization;
bulls-eye;
13.
Effects of laser bandwidth on OPE in a modern lithography tool
机译:
现代光刻工具中激光带宽对OPE的影响
作者:
Kevin Huggins
;
Toki Tsuyoshi
;
Meng Ong
;
Robert Rafac
;
Christopher Treadway
;
Devashish Choudhary
;
Takehito Kudo
;
Shigeru Hirukawa
;
Stephen P. Renwick
;
Nigel R. Farrar
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
laser;
bandwidth;
chromatic aberration;
FWHM;
E95;
OPE;
OPC;
14.
First performance results of the ASML alpha demo tool
机译:
ASML alpha演示工具的首个性能结果
作者:
Hans Meiling
;
Henk Meijer
;
Vadim Banine
;
Roel Moors
;
Rogier Groeneveld
;
Harm-JanVoorma
;
Uwe Mickan
;
Bas Wolschrijn
;
Bas Mertens
;
Gregor van Baars
;
Peter Kuerz
;
Noreen Harned
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
15.
Experimental characterization of the receding meniscus under conditions associated with immersion lithography
机译:
与浸没式光刻技术相关的后退弯月面的实验表征
作者:
Timothy A. Shedd
;
Scott D. Schuetter
;
Gregory F. Nellis
;
Chris K. Van Peski
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
dynamic contact angle;
static contact angle;
film pulling;
16.
Practical approach to full-field wavefront aberration measurement using phase wheel targets
机译:
使用相位轮目标进行全场波前像差测量的实用方法
作者:
Lena V. Zavyalova
;
Bruce W. Smith
;
Anatoly Bourov
;
Gary Zhang
;
Venugopal Vellanki
;
Patrick Reynolds
;
Donis G. Flagello
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
phase wheel monitor;
aberrations;
lithography;
wavefront;
zernike polynomials;
17.
Mask defect printing mechanisms for future lithography generations
机译:
面向下一代光刻的掩模缺陷印刷机制
作者:
reas Erdmann
;
Thomas Graf
;
Karsten Bubke
;
Ingo Hoellein
;
Silvio Teuber
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
mask defect printability;
lithography simulation;
mask topography;
18.
Investigation of immersion related defects using pre- and post-wet experiments
机译:
使用前后实验研究与浸入有关的缺陷
作者:
Stefan Brl
;
Robert Watso
;
Bill Pierson
;
Steve Holmes
;
Yayi Wei
;
Karen Petrillo
;
Kevin Cummings
;
Frank Goodwin
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
lithography;
immersion;
defects;
pre-wet;
post-wet;
immersion hood hover;
19.
Immersion Lithography Robustness for the C065 node
机译:
C065节点的浸没式光刻鲁棒性
作者:
Scott Warrick
;
Rob Morton
;
rea Mauri
;
Jean-Damien Chapon
;
Jerome Belledent
;
Will Conley
;
Alex Barr
;
Kevin Lucas
;
Cedric Monget
;
Valerie Plantier
;
David Cruau
;
Juan-Manuel Gomez
;
Emmanuel Sicurani
;
Jan-Willem Gemmink
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
20.
Immersion Specific Defect Mechanisms: Findings and Recommendations for their Control
机译:
浸入式特定缺陷机制:对其控制的发现和建议
作者:
Michael Kocsis
;
Dieter Van Den Heuvel
;
Roel Gronheid
;
Mireille Maenhoudt
;
Dizana Vangoidsenhoven
;
Greg Wells
;
Nickolay Stepanenko
;
Michael Benndorf
;
Hyun Woo Kim
;
Shinji Kishimura
;
Monique Ercken
;
Frieda Van Roey
;
S. OBrien
;
Wim Fyen
;
Philippe Foubert
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion;
defects;
bubbles;
water marks;
wafer edge film peeling;
particle transport;
21.
An integrated lithography concept with application on 45nm 1/2 pitch flash memory devices
机译:
集成光刻技术在45nm 1/2间距闪存器件上的应用
作者:
Mircea Dusa
;
re Engelen
;
Jo Finders
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
flash;
1/2 pitch (hp);
WL-wordline;
BL-bitline;
SG-select gate;
near-field;
dipole;
layout de-weighting;
pattern displacement;
CDU prediction;
22.
Across Wafer Focus Mapping and Its Applications in Advanced Technology Nodes
机译:
跨晶圆聚焦映射及其在先进技术节点中的应用
作者:
Gary Zhang
;
Stephen DeMoor
;
Scott Jessen
;
Qizhi He
;
Winston Yan
;
Sopa Chevacharoenkul
;
Venugopal Vellanki
;
Patrick Reynolds
;
Joe Ganeshan
;
Jan Hauschild
;
Marco Pieters
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
across chip focus variation (ACFV);
across wafer focus variation (AWFV);
phase shift focus monitor (PSFM);
focus mapping;
focus and leveling;
dynamic image field;
lens aberrations;
wafer flatness;
wafer topography;
pattern density;
edge die focus control;
23.
A dive into clear water: Immersion Defect Capabilities
机译:
潜入清澈的水中:浸没缺陷功能
作者:
B Streefkerk
;
J Mulkens
;
R Moerman
;
M Stavenga
;
J vd Hoeven
;
C Grouwstra
;
R Bruls
;
M Leenders
;
S Wang
;
Y v Dommelen
;
M Boerema
;
H Jansen
;
K Cummings
;
M Riepen
;
H Boom
;
M Suddendorf
;
P Huisman
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
24.
The Lithographic Lens: its history and evolution
机译:
平版印刷镜头:其历史和演变
作者:
Tomoyuki Matsuyama
;
Yasuhiro Ohmura
;
David M. Williamson
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
microlithography;
projection lens;
immersion;
25.
Watermark Defect Formation and Removal for Immersion Lithography
机译:
浸没式光刻的水印缺陷形成与消除
作者:
Ching-Yu Chang
;
Da-Ching Yu
;
John C.H. Lin
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
defects;
water drop;
watermark;
leaching;
chemically amplified reaction;
TARC;
protective coating;
26.
OPC and Verification Accuracy Enhancement using the 2D Wafer Image for the Low k1 Memory Devices
机译:
低k1存储设备使用2D晶圆图像提高OPC和验证精度
作者:
Yong-Chan Ban
;
Dong-Yoon Lee
;
Ji-Suk Hong
;
Moon-Hyun Yoo
;
Jeong-Taek Kong
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
optical lithography;
resolution enhancement technology;
OPC;
wafer image;
SEM;
modeling;
27.
Positive and Negative Tone Double Patterning Lithography For 50nm Flash Memory
机译:
用于50nm闪存的正负双色调图案化光刻
作者:
Chang-Moon Lim
;
Seo-Min Kim
;
Young-Sun Hwang
;
Jae-Seung Choi
;
Keun-Do Ban
;
Sung-Yoon Cho
;
Jin-Ki Jung
;
Eung-Kil Kang
;
Hee-Youl Lim
;
Hyeong-Soo Kim
;
Seung-Chan Moon
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
double patterning;
double exposure;
CD uniformity;
28.
Characterization of Imaging Performance for Immersion Lithography at NA=0.93
机译:
NA = 0.93时浸没式光刻的成像性能表征
作者:
Dario Gil
;
Jaione Tirapu-Azpiroz
;
Ryan Deschner
;
Timothy Brunner
;
Carlos Fonseca
;
Jennifer Fullam
;
Dan Corliss
;
Kit Auschnitt
;
Peter Vanoppen
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
ACLV;
CDU;
193nm lithography;
scatterometry;
design restrictions;
OPC;
29.
Basic Studies of Overlay Performance on Immersion Lithography Tool
机译:
浸没式光刻工具的叠加性能基础研究
作者:
Ken-ichi Shiraishi
;
Tomoharu Fujiwara
;
Hirokazu Tanizaki
;
Yuuki Ishii
;
Takuya Kono
;
Shinichiro Nakagawa
;
Tatsuhiko Higashiki
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
UPW;
thermal stabilities;
overlay accuracy;
topcoat;
evaporation heat;
30.
EMF Simulation with DDM to Enable EAPSM Masks in 45 nm Manufacturing
机译:
使用DDM进行EMF仿真以在45 nm制造中启用EAPSM掩模
作者:
Patrick M. Martin
;
C.J. Progler
;
Michael Cangemi
;
Kostas Adam
;
George Bailey
;
Pat LaCour
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
simulation;
lithography;
resolution enhancement;
optical proximity correction;
photomask;
embedded attenuated phase shift;
domain decomposition method;
31.
Dense OPC and verification for 45nm
机译:
密集的OPC和45nm验证
作者:
Nicolas Cobb
;
Dragos Dudau
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
dense OPC;
dense simulation;
OPC verification;
32.
Effect of Azimuthally Polarized Illumination Imaging on Device Patterns Beyond the 45-nm-Node
机译:
方位偏振照明成像对超过45 nm节点的器件图案的影响
作者:
Ken Ozawa
;
Boontarika Thunnakart
;
Tokihisa Kaneguchi
;
Isao Mita
;
Atsushi Someya
;
Toshiharu Nakashima
;
Hisashi Nishinaga
;
Yasushi Mizuno
;
Tomoyuki Matsuyama
;
Masato Hamatani
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
33.
Evanescent wave imaging in optical lithography
机译:
光刻中的van逝波成像
作者:
Bruce W. Smith
;
Yongfa Fan
;
Jianming Zhou
;
Neal Lafferty
;
rew Estroff
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
evanescent wave lithography;
solid immersion lithography;
193nm immersion lithography;
34.
Enabling the 45nm node by hyper-NA polarized lithography
机译:
通过超NA偏振光刻启用45nm节点
作者:
Wim de Boeij
;
Geert Swinkels
;
Nicolas Le Masson
;
Arm Koolen
;
Henk van Greevenbroek
;
Michel Klaassen
;
Mark van de Kerkhof
;
Koen van Ingen Schenau
;
Laurens de Winter
;
Martijn Wehrens
;
Steve Hansen
;
Christian Wagner
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
ArF stepscan lithography;
high-NA;
hyper-NA;
65nm node;
45nm node;
lithography;
polarization;
polarimetry;
immersion;
optical birefringence;
35.
Characterizing a scanner illuminator for prediction of OPE effects
机译:
表征扫描仪照明器以预测OPE效果
作者:
Stephen P. Renwick
;
Hisashi Nishinaga
;
Naonori Kita
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
illuminator;
pupil;
OPE;
OPC;
NA;
sigma;
effective;
iso-dense bias;
coherence;
36.
High NA Polarized Light Lithography for 0.29k1 Process
机译:
适用于0.29k1工艺的高NA偏振光光刻
作者:
Chanha Park
;
Jeonkyu Lee
;
Kiho Yang
;
Shih-en Tseng
;
Young-Hong Min
;
Alek C. Chen
;
Hyunjo Yang
;
Donggyu Yim
;
Jinwoong Kim
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
source polarization;
low k1;
RET;
MEEf;
37.
High-Index fluoride materials for 193 nm Immersion Lithography
机译:
用于193 nm浸没式光刻的高指数氟化物材料
作者:
T. Nawata
;
Y. Inui
;
I. Masada
;
E. Nishijima
;
H. Satoh
;
T. Fukuda
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
BaF_2;
BaLiF_3;
KY_3F_(10);
high index;
immersion lithography;
czochralski;
single crystal;
38.
Experimental Verification of PSM Polarimetry: Monitoring Polarization at 193-nm High-NA with Phase-Shift Masks
机译:
PSM偏振法的实验验证:使用相移掩模在193 nm高NA下监控偏振
作者:
Gregory McIntyre
;
rew Neureuther
;
Steve Slonaker
;
Venu Vellanki
;
Patrick Reynolds
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
illumination polarization monitoring;
phase shifting test mask;
stokes parameters;
chromeless phase lithography (CPL);
optical lithography;
39.
High-index optical materials for 193-nm immersion lithography
机译:
用于193 nm浸没式光刻的高折射率光学材料
作者:
John H. Burnett
;
Simon G. Kaplan
;
Eric L. Shirley
;
Deane Horowitz
;
Wilfried Clauss
;
rew Grenville
;
Chris Van Peski
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
high index materials;
immersion lithography;
193 nm lithography;
hyper NA;
ceramic spinel oxides;
garnets;
40.
Global Optimization of the Illumination Distribution to Maximize Integrated Process Window
机译:
全局优化照明分布以最大化集成过程窗口
作者:
Alan E. Rosenbluth
;
Nakgeuon Seong
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
off-axis illumination;
source optimization;
source mask optimization;
reticle enhancement technology;
optical proximity correction;
global optimization;
SMO;
RET;
OPC;
MEf;
41.
Second generation fluids for 193nm immersion lithography
机译:
用于193nm浸没式光刻的第二代流体
作者:
Roger H. French
;
Weiming Qiu
;
Min K. Yang
;
Robert C. Whel
;
Michael F. Lemon
;
Aaron L. Shoe
;
Doug J. Adelman
;
Michael K. Crawford
;
Hoang V. Tran
;
Jerald Feldman
;
Steve J. McLain
;
Sheng Peng
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion;
second generation fluid;
hydrocarbons;
refractive index;
absorbance;
thermo-optic coefficient;
interference imaging;
fluid handling;
radiation durability;
active recycle;
42.
Optical properties and process impacts of high transmission EAPSM
机译:
高透射EAPSM的光学特性和工艺影响
作者:
Young Mog Ham
;
Nicolo Morgana
;
Pierre Sixt
;
Mike Cangemi
;
Bryan Kasprowicz
;
Chris Progler
;
Pat Martin
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
high transmission;
EAPSM;
simulation;
OPC;
RET;
manufacturability;
process margin;
ArF;
design;
43.
Optimizing Absorber Thickness of Attenuating Phase-Shifting Masks for Hyper-NA Lithography
机译:
用于超NA光刻的衰减相移掩模的吸收体厚度优化
作者:
Masaki Yoshizawa
;
Vicky Philipsen
;
Leonardus H. A. Leunissen
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
immersion;
hyper NA;
attenuating phase-shifting mask;
mask topography;
absorber thickness;
44.
Polarization aberration analysis in optical lithography systems
机译:
光刻系统中的偏振像差分析
作者:
Jongwook Kye
;
Gregory McIntyre
;
Yamamoto Norihiro
;
Harry J. Levinson
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
ultra-high NA;
polarization aberration;
zernike polynomials;
jones calculus;
pauli spin matrix;
stokes parameter;
coherency matrix;
45.
Laser bandwidth and other sources of focus blur in lithography
机译:
光刻中的激光带宽和其他聚焦源模糊
作者:
T. Brunner
;
D. Corliss
;
S. Butt
;
T. Wiltshire
;
C.P. Ausschnitt
;
M. Smith
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
lithography;
excimer laser;
laser bandwidth;
high NA imagery;
microlithography;
high resolution lithography;
process control;
linewidth uniformity;
proximity effects;
simulation;
46.
Inverse Lithography Technology at Chip Scale
机译:
芯片级反光刻技术
作者:
Benjamin Lin
;
Ming Feng Shieh
;
Jie-wei Sun
;
Jonathan Ho
;
Yan Wang
;
Xin Wu
;
Orson Lin
;
Jason Lin
;
Yong Liu
;
Linyong Pang
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
关键词:
inverse lithography technology (ILT);
OPC;
RET;
lithography;
47.
Immersion Effects on Lithography System Performance
机译:
浸入对光刻系统性能的影响
作者:
Seiji Nagahara
;
Ivan Pollentier
;
Takahiro Machida
;
Sean OBrien
;
Eric Jacobs
;
Charles Schaap
;
Philippe Leray
;
Greet Storms
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
ArF;
immersion lithography;
immersion-specific effect;
focus;
overlay;
scan-dynamic performance;
soaking time;
resist-profile uniformity;
48.
MEEF-based Correction to Achieve OPC Convergence of Low-k1 Lithography with Strong OAI
机译:
基于MEEF的校正以实现具有强OAI的低k1光刻的OPC收敛
作者:
Soo-Han Choi
;
A-Young Je
;
Ji-Suk Hong
;
Moon-Hyun Yoo
;
Jeong-Taek Kong
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
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2006年
关键词:
MEEF-based correction;
PID controller;
convergence;
low-k1 lithography;
strong OAI;
49.
(Lens) Design For (Chip) Manufacture: Lens tolerancing based on linewidth calculations in hyper-NA, immersion lithography systems
机译:
(芯片)制造的(镜片)设计:基于超NA,浸没式光刻系统中线宽计算的镜片公差
作者:
R.L. Gordon
;
M.P. Rimmer
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
50.
Marching to the beat of Moore's Law
机译:
迈向摩尔定律的步伐
作者:
Yan Borodovsky
会议名称:
《Optical Microlithography XIX pt.1》
|
2006年
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