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Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2
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1.
Global pattern density control by resizing fill patterns for CD skew compensation
机译:
通过调整填充图案的大小以进行CD偏斜补偿来控制整体图案密度
作者:
Jae-pil Shin
;
Jin-sook Choi
;
Sung-gyu Park
;
Jong-bae Lee
;
Moon-hyun Yoo
;
Jeong-taek Kong
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
global pattern density control;
CD skew;
fill patterns;
2.
Fine pixel SEM image for mask pattern quality assurance based on lithography simulation
机译:
基于光刻仿真的用于掩模图案质量保证的精细像素SEM图像
作者:
Eiji Yamanaka
;
Mitsuyo Kariya
;
Shinji Yamaguchi
;
Satoshi Tanaka
;
Kohji Hashimoto
;
Masamitsu Itoh
;
Hideaki Kobayashi
;
Tsukasa Kawashima
;
Shogo Narukawa
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
SEM;
edge extraction;
lithography simulation;
optical proximity correction (OPC);
hotspot;
3.
Fracture Friendly Optical Proximity Correction for non-Manhattan Features
机译:
非曼哈顿功能的易碎裂光学邻近校正
作者:
John Nogatch
;
Robert Lugg
;
Mike Miller
;
Frank Amoroso
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
critical dimension (CD) uniformity;
fracture;
jogs;
optical proximity correction (OPC);
slivers;
4.
Unifying the RET design flow with portable modeling information
机译:
通过便携式建模信息统一RET设计流程
作者:
Jason Sweis
;
Wolf Staud
;
Bob Naber
;
Tom Laidig
;
Doug Van Denbroeke
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
process model file PMF™;
5.
Verification of the modified model of drying process of a polymer liquid film on a flat substrate by experiment (2) - through more accurate experiment -
机译:
通过更精确的实验,通过实验(2)验证了在平坦基材上的聚合物液膜干燥过程的改进模型-
作者:
Hiroyuki Kagami
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
6.
A technique to determine a capability to detect adjacent defects during an automatic inspection of reticle patterns
机译:
确定在自动检查掩模版图案期间检测相邻缺陷的能力的技术
作者:
Syarhei Avakaw
;
Aliaksr Korneliuk
;
Alena Tsitko
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
reticle;
inspection tool;
ajacent defect;
7.
Fabrication of nanoimprint stamp and its application
机译:
纳米压印印模的制备及其应用
作者:
Yung-Chiang Ting
;
Shyi-Long Shy
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
nanoimprint;
PDMS;
high resolution electron beam resist ZEP520;
8.
Fast Yield-Driven Fracture for Variable Shaped-Beam Mask Writing
机译:
快速屈服驱动断裂,用于可变形束掩模的书写
作者:
rew B. Kahng
;
Xu Xu
;
Alex Zelikovsky
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
fracture;
variable shaped-beam mask writing;
mask data preparation;
yield-driven;
9.
From GDSII to OASIS : Practical Support Tools for Data Processing Flow Transition
机译:
从GDSII到OASIS:用于数据处理流程转换的实用支持工具
作者:
Masakazu Endo
;
Kuninori Nishizawa
;
Kokoro Kato
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
10.
Evaluating Films for High Transmission Attenuated Phase Shift Masks
机译:
高透过率衰减相移掩模的评估膜
作者:
Satoru Nemoto
;
Toru Komizo
;
Yasutaka Kikuchi
;
Emily Gallagher
;
Jason Benz
;
Michael Hibbs
;
Takashi Haraguchi
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
attenuated phase shift mask;
high transmission;
45nm lithography;
11.
Dissolution Behavior of Chemically Amplified Resist for advanced mask- and NIL mold-making as studied by Dissolution Rate Monitor
机译:
溶解速率监控器研究的用于高级面罩和NIL模具制造的化学放大抗蚀剂的溶解行为
作者:
Kazumasa Takeshi
;
Kazuto Oono
;
Yoshiyuki Negishi
;
Daisuke Inokuchi
;
Keishi Tanaka
;
Akira Tamura
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
dissolution rate;
chemically amplified resist;
quartz crystal microbalance;
electron beam;
nano imprint;
mold;
12.
Chrome Etch Challenges for 45 nm Beyond
机译:
45纳米及以上的Chrome蚀刻挑战
作者:
Madhavi Chrachood
;
Michael Grimbergen
;
Ibrahim M. Ibrahim
;
Sheeba Panayil
;
Ajay Kumar
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
advanced mask;
binary mask;
chrome etch;
CD control;
mask etcher;
45 nm;
13.
Application of Photolithographic Simulation and a Mask Repair System in a Production Environment
机译:
光刻模拟和掩模修复系统在生产环境中的应用
作者:
Tod Robinson
;
John Lewellen
;
Ron Bozak
;
David A. Lee
;
Peter Brooker
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
photomask;
defect;
repair;
simulation;
nanomachining;
14.
Shot Number Estimation for EB Direct Writing for Logic LSI Utilizing Character-Build Standard-Cell Layout Technique
机译:
利用字符构建标准单元布局技术的逻辑LSI EB直接写入的镜头数量估计
作者:
Yoshihiko Kajiya
;
Akihiro Nakamura
;
Masaya Yoshikawa
;
Takeshi Fujino
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
EB direct write;
mask layout;
standard cell;
character projection;
cell projection;
block exposure;
15.
TaN-based EUV Mask Absorber Etch Study
机译:
基于TaN的EUV面罩吸收剂蚀刻研究
作者:
Yan Du
;
Chang Ju Choi
;
Guojing Zhang
;
Seh-Jin Park
;
Pel-Yang Yan
;
Ki-Ho Baik
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
EUV lithography;
EUV mask;
absorber;
etch;
CD;
profile;
etch bias;
ICP;
16.
Robust OPC technique using aerial image parameter
机译:
使用航拍图像参数的稳健OPC技术
作者:
Mikio Oka
;
Shinichiro Suzuki
;
Kazuyoshi Kawahara
;
Kensuke Tsuchiya
;
Kazuhisa Ogawa
;
Hidetoshi Ohnuma
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
focus variation;
aerial image parameter;
OPC;
hotspot;
robust;
17.
Resist And Etch Modeling For The 45nm Node
机译:
45nm节点的抗蚀刻模型
作者:
Martin Drapeau
;
Dan Beale
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion;
OPC;
resist modeling;
staged modeling;
etch modeling;
model accuracy;
SEM data extraction;
metrology;
18.
Megasonic cleaning, cavitation, and substrate damage: an atomistic approach
机译:
超声波清洗,气蚀和基材损坏:原子方法
作者:
Vivek Kapila
;
Pierre A. Deymier
;
Hrishikesh Shende
;
Viraj Pit
;
Srini Raghavan
;
Florence O. Eschbach
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
photomask cleaning;
megasonics;
cavitation;
19.
Metrology Limits of Mask Process Development
机译:
掩模工艺开发的计量限制
作者:
Pavel Nesladek
;
reas Wiswesser
;
Bjoern Sass
;
Jan Richter
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
metrology;
process optimization;
etch process;
design of experiment;
20.
Model-Based Insertion of Assist Features Using Pixel Inversion Method: Implementation in 65nm Node
机译:
使用像素反转方法的基于模型的辅助特征插入:在65nm节点中的实现
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Qingwei Liu
;
Kyohei Sakajiri
;
Shumay D. Shang
;
Yuri Granik
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
21.
Lithographic performance comparison with various RET for 45-nm node with hyper NA
机译:
具有超NA的45nm节点使用各种RET的光刻性能比较
作者:
Takashi Adachi
;
Yuichi Inazuki
;
Takanori Sutou
;
Yasuhisa Kitahata
;
Yasutaka Morikawa
;
Nobuhito Toyama
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
45-nm node;
immersion lithography;
3D simulation;
mask topography effect;
22.
Lithography process margin enhancement using illumination based assist pattern
机译:
使用基于照明的辅助图案提高光刻工艺裕度
作者:
James Moon
;
Dong-Jin Lee
;
Gui-Hwang Sim
;
Jae-Doo Eum
;
Byung-Ho Nam
;
Dong Gyu Yim
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
assist feature;
illumination;
lithography;
scattering bar;
OPC;
23.
Mask Cleaning Strategies — A Continuous Ion Removal Concept
机译:
口罩清洁策略—连续离子去除概念
作者:
Steve Osborne
;
Hidekazu Takahashi
;
Eric Woster
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
sulfate ion;
ammonium ion;
sublimation;
particle removal efficiency;
haze;
reticle thermal treatment;
preemptive crystallization;
24.
Mask Etcher Data Strategy for 45nm and Beyond
机译:
适用于45nm及更高版本的Mask Etcher数据策略
作者:
Richard Lewington
;
Ibrahim M.Ibrahim
;
Sheeba Panayil
;
Ajay Kumar
;
John Yamartino
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
mask etcher;
45 nm;
data acquisition;
EDA;
25.
Mask Specifications for 45-nm node: The Impact of Immersion Lithography and Polarized Light Imaging
机译:
45 nm节点的掩模规格:浸没式光刻和偏振光成像的影响
作者:
Kazuya Iwase
;
Ken Ozawa
;
Fumikatsu Uesawa
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
immersion lithography;
polarized light imaging;
mask;
specification;
birefringence;
26.
Hot Spot-based Judgment Methodology for High-end Photomask Availability for Any Exposure Tools
机译:
基于热点的判断方法论,可用于任何曝光工具的高端光掩模可用性
作者:
Satoshi Usui
;
Shigeru Hasebe
;
Shigeki Nojima
;
Kohji Hashimoto
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
hot spot-based judgment flow;
ultra-low k1 lithography;
high-end photomask;
27.
Influence of the pellicle on final photomask flatness
机译:
防护膜对最终光掩模平坦度的影响
作者:
Richard Wistrom
;
Dennis Hayden
;
Kenneth Racette
;
Monica Barrett
;
rew Watts
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
mask flatness;
pellicle;
adhesive;
frame;
28.
New Proximity Effect Correction for under 100nm patterns
机译:
适用于100nm以下图案的新近距效应校正
作者:
Masahiro Shoji
;
Nobuyasu Horiuchi
;
Tomoyuki Chikanaga
;
Takashi Niinuma
;
Dai Tsunoda
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
PEC;
EBDW;
NGL;
29.
Optimization of Source Distribution for half-wavelength DOE
机译:
半波长DOE的光源分布优化
作者:
Ryuji Horiguchi
;
Nobuhito Toyama
;
Kimio Itoh
;
Kouji Yoshida
;
Masaaki Kurihara
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
DOE;
resolution enhancement;
OPC;
illumination;
30.
The study of contact hole for 65nm node with Krf
机译:
用Krf研究65nm节点的接触孔。
作者:
Tae-Jun You
;
Sung-Woo Ko
;
James Moon
;
Yeong-Bae Ahn
;
Byung-Ho Nam
;
Dong-Gyu Yim
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
OAI(off axis illumination);
SRAF(sub resolution assist feature);
contact hole;
31.
Etch Analysis of Patterns to Comprehend Manufacturability
机译:
蚀刻图案的可制造性分析
作者:
Daniel F. Beale
;
Lawrence S. Melvin III
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
etch;
lithography compliance checking;
design rule check;
mask rule check;
32.
Binary Cr Etch Process Control Directed at the 45nm Node
机译:
针对45nm节点的二元Cr蚀刻工艺控制
作者:
J. Plumhoff
;
R. Westerman
;
C. Constantine
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
33.
Automated evaluation of AIMS images: an approach to minimize evaluation variability
机译:
自动评估AIMS图像:一种最小化评估变异性的方法
作者:
Arndt C. Duerr
;
Martin Arndt
;
Jan Fiebig
;
Samuel Weiss
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
AIMS;
defect disposition;
aerial imaging;
printability;
automation;
optical imaging;
193nm lithography;
mask;
reticle;
34.
Photomask dry etching techniques for hard mask
机译:
硬掩模的光掩模干法刻蚀技术
作者:
Sung-Won Kwon
;
Young-Ju Park
;
Sung-Yoon Kim
;
Han-shin Lee
;
Hyuk-Joo Kwon
;
Seung-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
photomask;
hard mask;
etch bias;
35.
Nanoparticle Removal from EUV Photomasks using Laser Induced Plasma Shockwaves
机译:
使用激光诱导等离子体激波从EUV光掩模去除纳米颗粒
作者:
John Kadaksham
;
Dong Zhou
;
M. D. Murthy Peri
;
Ivin Varghese
;
Florence Eschbach
;
Cetin Cetinkaya
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
nanoparticle adhesion;
nanoparticle removal;
rolling moment resistance;
laser-induced plasma Shockwaves;
nano-scale contamination;
36.
Quartz Etch Challenges for 45 nm Phase-Shift Masks
机译:
45 nm相移掩模的石英刻蚀挑战
作者:
Scott A. erson
;
Madhavi Chrachood
;
Michael Grimbergen
;
Toi Yue Becky Leung
;
Ibrahim Ibrahim
;
Sheeba Panayil
;
Ajay Kumar
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
chromeless;
CPL;
dry etch;
etch rate uniformity;
mask etch;
phase shift;
phase shifting masks (PSM);
quartz etch;
RIE lag;
37.
Reduction of MDP time through the improvement of verification method
机译:
通过改进验证方法减少MDP时间
作者:
Young-Hwa Noh
;
Sung-Hoon Jang
;
Won-Tai Ki
;
Ji-Hyeon Choi
;
Seong-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
MDP(mask data preparation);
DP(distributed processing);
verification method;
fracturing;
TAT;
38.
The CD measuring repeatability enhancement by intensity gradient
机译:
CD通过强度梯度测量可重复性
作者:
Yongkyoo Choi
;
Sangpyo Kim
;
Munsik Kim
;
Oscar Han
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
HT PSM;
CD-SEM;
nonlinear diffusion filter;
ROI;
intensity gradient;
polynomial approximation;
39.
The Art of Reticle Management
机译:
标线管理的艺术
作者:
Jochen Gruhn
;
Tobias Ferber
;
Wolfgang Keller
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
reticle management;
reticle inspection management;
reticle automation;
mask management;
mask automation;
SEMI P10;
40.
Femtopulse Laser-Based Mask Repair in the DUV Wavelength Regime
机译:
DUV波长范围内基于飞脉冲激光的面罩修复
作者:
Firoz Ghadiali
;
Vikram Tolani
;
Rajesh Nagpal
;
Tod Robinson
;
Jeff LeClaire
;
Ron Bozak
;
David A. Lee
;
Roy White
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
mask repair;
laser;
femtosecond pulse;
DUV microscopy;
41.
FPGA based high-speed system solutions for innovative Maskless Lithography Systems
机译:
用于创新型无掩模光刻系统的基于FPGA的高速系统解决方案
作者:
Sven-Hendrik Voss
;
Maati Talmi
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
maskless lithography;
high-speed buffer;
FPGA implementation;
PCB;
optimized architecture;
42.
The Design Qualification of the TEL CLEAN TRACK ACT™ M Photomask Coating Tool at Intel
机译:
英特尔的TEL CLEAN TRACK ACT™M光掩模涂层工具的设计与鉴定
作者:
rew Jamieson
;
Thuc Dam
;
Ki-Ho Baik
;
Ken Duerksen
;
Elie Eidson
;
Keiji Akai
;
Kazuya Hisano
;
Norifumi Kohama
;
Shinichi Machidori
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
photomask;
coating;
resist;
43.
A methodology to weight OPC modeling data points
机译:
加权OPC建模数据点的方法
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Ching-Heng Wang
;
Qingwei Liu
;
Cliff Ma
;
KeChih Wu
;
Gary Zhang
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
model-based optical proximity correction (MOPC);
RET;
weighting function;
nanoScope;
anchor;
modeler;
VBM;
44.
A CP Mask Development Methodology for MCC Systems
机译:
用于MCC系统的CP掩模开发方法
作者:
Makoto Sugihara
;
Taiga Takata
;
Kenta Nakamura
;
Yusuke Matsunaga
;
Kazuaki Murakami
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
character projection;
variable shaped beam;
maskless lithography;
electron beam direct write;
MCC systems;
throughput;
CP masks;
45.
Evaluation of OASIS.VSB (SEMI P44) for practical use
机译:
评估OASIS.VSB(SEMI P44)的实用性
作者:
Koki Kuriyama
;
Toshio Suzuki
;
Shogo Narukawa
;
Hiroshi Mohri
;
Morihisa Hoga
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
46.
Advance Hybrid Mask Process Development
机译:
先进的混合掩模工艺开发
作者:
Orson Lin
;
Jomarch Chou
;
K.K Fu
;
Booky Lee
;
Richard Lu
;
Jerry Lu
;
Chiang-Lin Shi
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
chromeless phase lithography (CPL);
RET;
hybrid mask;
47.
Approximate method of mask flatness factor in focus deviation
机译:
聚焦偏差中掩模平坦度因子的近似方法
作者:
Shinroku Maejima
;
Seiichiro Shirai
;
Akira Imai
;
Shuji Nakao
;
Koji Tange
;
Akira Chiba
;
Kunihiro Hosono
;
Koichiro Narimatsu
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
back side chrome (BSC) mask;
mask flatness;
interferometer;
48.
Simulation of Dry Etch Profile Dynamics and CD Variation Due to Microloading
机译:
由于微负载而引起的干蚀刻轮廓动力学和CD变化的模拟
作者:
S. Babin
;
K. Bay
;
S. Okulovsky
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
maskmaking;
dry etch;
etch profile;
CD variation;
microloading;
simulation;
49.
Simulation and experiments for inspection properties of EUV mask defects
机译:
EUV掩模缺陷检查特性的仿真和实验
作者:
Jinhong Park
;
Seong-Sue Kim
;
SukJoo Lee
;
Sang-Gyun Woo
;
Han-Ku Cho
;
Joo-Tae Moon
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
phase defect;
amplitude;
confocal inspection;
multilayer;
simulation;
50.
Pore Size Control of Alumina Membrane Mask
机译:
氧化铝膜掩模的孔径控制
作者:
Yung-Chiang Ting
;
Shyi-Long Shy
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
anodic aluminum oxide;
mask;
51.
Simultaneous layout, process and model optimization within an integrated Design-for-Yield environment
机译:
在集成的按需设计环境中同时进行布局,过程和模型优化
作者:
Dmitri Lapanik
;
Lynn Cai
;
Chung-Shin Kang
;
Bob Naber
;
Jason Sweis
;
Wolf Staud
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
DFM;
DFY;
manufacturability;
52.
The characterization of line-width in mask using spectrophotometry
机译:
分光光度法表征掩模中的线宽
作者:
Kyoung-Yoon Bang
;
Yo-Han Choi
;
Han-June Yoon
;
Hae-Young Jeong
;
Yong-Hoon Kim
;
Seung-Woon Choi
;
Hee-Sun Yoon
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
line-width;
spectrophotometry;
patterned mask;
53.
Model Base SRAF Insertion Check with OPC verify Tools
机译:
使用OPC验证工具的Model Base SRAF插入检查
作者:
Chi-Yuan Hung
;
Zexi Deng
;
Gensheng Gao
;
Liguo Zhang
;
Qingwei Liu
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
optcail proximity correct (OPC);
sub rule assistant feature (SRAF);
optical proximity correction (OPC);
calibre;
54.
In-field CD uniformity control by altering transmission distribution of the photomask, using Ultra fast pulsed laser technology
机译:
使用超快速脉冲激光技术,通过改变光掩模的透射分布来进行现场CD均匀性控制
作者:
Yasutaka Morikawa
;
Takanori Sutou
;
Yuichi Inazuki
;
Takashi Adachi
;
Yuuichi Yoshida
;
Kouichirou Kojima
;
Shiho Sasaki
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
;
Vladmir Dmitriev
;
Sergey Oshemkov
;
Eitan Zait
;
Guy Ben-Zvi
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
关键词:
CD uniformity control;
Shade-in-Elements™ArF lithography;
55.
EBL resist heating error and its correction
机译:
EBL抗蚀剂加热误差及其校正
作者:
Sergey Babin
;
Igor Kuzmin
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
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2006年
56.
Dry etch technology development for NIL template
机译:
NIL模板的干法蚀刻技术开发
作者:
Yuuichi Yoshida
;
Tsuyoshi Amano
;
Shiho Sasaki
;
Kimio Itoh
;
Nobuhito Toyama
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII pt.2》
|
2006年
关键词:
imprint;
1X masks;
high resolution;
mold;
template;
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