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Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR
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1.
60-nm Gate Length SOI CMOS Technology Optimized for 'System-on-a-SOI-Chip' Solution
机译:
针对“ SOI芯片系统”解决方案而优化的60纳米栅极长度SOI CMOS技术
作者:
Kiyotaka Imai
;
Shinya Maruyama
;
Takayuki Suzuki
;
Tomohiko Kudo
;
Shinichi Miyake
;
Masahiro Ikeda
;
Takayuki Abe
;
Shuichi Masuda
;
Akira Tanabe
;
Jong-Wook Lee
;
Kentaro Shibahara
;
Shin Yokoyama
;
Hideyuki Ooka
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
2.
MULTI-FIN DOUBLE-GATE MOSFET FBRICATED BY USING (110)-ORIENTED SOI WAFERS AND ORIENTATION-DEPENDENT ETCHING
机译:
通过使用(110)定向的SOI晶片和定向相关的蚀刻来制造多鳍双栅MOSFET
作者:
Y. X. Liu
;
K. Ishii
;
T. Tsutsumi
;
M. Masahara
;
H. Takashima
;
E. Suzuki
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
3.
IMPACT OF WAFER BACKSIDE CU CONTAMINATION TO 0.18 μm NODE DEVICES
机译:
晶圆背面铜污染对0.18μm节点器件的影响
作者:
S. Q. Ou
;
L. Duong
;
J. Elmer
;
S. Prasad
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
4.
SUB-QUARTER-MICRON PMOSFET DC AND AC NBTI DEGRADATION
机译:
准四分之一微米PMOSFET直流和交流NBTI退化
作者:
Erhong Li
;
Sharad Prasad
;
Sangjune Park
;
John Walker
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
5.
SINGLE AND FEW ELECTRON DEVICES INTEGRATION TRENDS
机译:
单双电子设备集成趋势
作者:
Jacques Gautier
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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;
S.K. Han
;
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;
T. Gustafson
;
J. Hauscr
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T.-J. King
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Q. Liu
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P. Ranadc
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A. Kingon
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D.-L. Kwong
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S.J. Lee
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C.H. Lee
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;
R. Choi
;
H. Cho
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;
G. Lucovsky
会议名称:
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机译:
低能离子注入和闪光灯退火形成超浅结
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Kyoichi Suguro
;
Takayuki Ito
;
Takaharu Itani
;
Toshihiko Iinuma
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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8.
THE IMPACT OF SINGLE WAFER PROCESSING ON PROCESS INTEGRATION
机译:
单晶片工艺对工艺集成的影响
作者:
R. Singh
;
M. Fakhruddin
;
K. F. Poole
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
9.
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机译:
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作者:
Alessia Pavan
;
Daniela Brazzelli
;
Marta Aiello
;
Chiara Capolupo
;
Cesare dementi
;
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;
Andrea Ghetti
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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10.
APPLICATIONS OF SILICON GERMANIUM ELECTRODES IN ULSI
机译:
硅锗电极在超大规模集成电路中的应用
作者:
Er-Xuan Ping
;
Eric Blomiley
;
Fernando Gonzalez
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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11.
COMPATIBILITY OF POLYSILICON WITH HFO_2-BASED GATE DIELECTRICS FOR CMOS APPLICATIONS
机译:
多晶硅与基于HFO_2的栅极电介质在CMOS应用中的相容性
作者:
V.S. Kaushik
;
S.DeGendt
;
M.Caymax
;
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;
S.V.Elshocht
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M. Claes
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会议名称:
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12.
CURRENT STATUS AND FUTURE PROSPECTS IN MIXED SIGNAL SOC
机译:
混合信号SOC的现状和未来展望
作者:
Akira Matsuzawa
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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Raghaw Rai
;
Olubunmi Adetutu
;
James Geren
;
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;
David Petru
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
14.
EFFECTS OF NITRIDATION TREATMENT FOR ELECTRICAL PROPERTIES OFMONOS NONVOLATILE MEMORIES
机译:
氮化处理对MONOS非挥发性记忆体电学性质的影响
作者:
Hiroshi Aozasa
;
Ichiro Fujiwara
;
Kazumasa Nomoto
;
Hiroshi Komatsu
;
Toshio Kobayashi
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
15.
ELECTRICAL CHARACTERISTICS AND THERMAL STABILITY OF W_2N/Ta_2O_5/Si MOS CAPACITORS IN N_2:O_2 AND H_2 AMBIENTS
机译:
N_2:O_2和H_2气氛中W_2N / Ta_2O_5 / Si MOS电容器的电学特性和热稳定性
作者:
P. C.Jiang
;
J.S.Chen
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
16.
FLASH MEMORY TECHNOLOGY EVOLUTION
机译:
闪存技术的发展
作者:
Roberto Bez
;
Emilio Camerlenghi
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
17.
FeRAM TECHNOLOGY: TODAY AND FUTURE
机译:
FeRAM技术:当今与未来
作者:
Iwao Kunishima
;
Nicolas Nagel
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
18.
EXTENDING PLANAR SINGLE-GATE CMOS ACCELERATING THE REALIZATION OF DOUBLE-GATE/MULTI-GATE CMOS DEVICES
机译:
扩展平面单门CMOS并加速双门/多门CMOS器件的实现
作者:
John O. Borland
;
Hiroshi Iwai
;
Witek Maszara
;
Howard Wang
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
19.
FROM AMBIENT INTELLIGENCE TO SILICON PROCESS TECHNOLOGY
机译:
从环境智能到硅工艺技术
作者:
C. J. van der Poel
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
20.
Fully Depleted SOI Process and Device Technology for Digital and RF Applications
机译:
用于数字和射频应用的完全耗尽的SOI工艺和器件技术
作者:
F. Ichikawa
;
Y. Nagatomo
;
Y. Katakura
;
S. Itoh
;
H. Matsuhashi
;
N. Hirashita
;
S. Baba
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
21.
HIGH PERFORMACE STRAINED-SOI CMOSFETs
机译:
高性能应变SOI MOSFET
作者:
Shin-ichi Takagi
;
Tomohisa Mizuno
;
Tsutomu Tezuka
;
Naoharu Sugiyama
;
Toshinori Numata
;
Koji Usuda
;
Yoshihiko Moriyama
;
Shu Nakaharai
;
Junji Koga
;
Akihito Tanabe
;
Tatsuro Maeda
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
22.
NEW CHARACTERIZATION TECHNIQUES FOR SOI AND RELATED DEVICES
机译:
SOI和相关设备的新表征技术
作者:
S. Okhonin
;
M. Nagoga
;
P. Fazan
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
23.
PHYSICAL ANALYSIS AND MODELING OF PLASMA ETCHING MECHANISM FOR ULSI APPLICATION
机译:
ULSI应用等离子刻蚀机理的物理分析与建模
作者:
M. Kanoh
;
S. Onoue
;
K. Nishitani
;
T. Shinmura
;
K. Iyanagi
;
S. Kinoshita
;
S.Takagi
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
24.
OPTIMIZATION OF ULTRA-THIN BODY, FULLY- DEPLETED-SOI DEVICE, WITH RAISED SOURCE/DRAIN OR RAISED EXTENSION
机译:
优化的薄体,SOI完全耗尽的设备,具有提高的源/漏或提高的扩展性
作者:
J. L. (Skip) Egley
;
Anne Vandooren
;
Brian Winstead
;
Eric Verret
;
Bruce White
;
Bich-Yen Nguyen
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
25.
Si CHANNEL SURFACE DEPENDENCE OF ELECTRICAL CHARACTERISTICS IN ULTRA-THIN GATE OXIDE CMOS
机译:
超薄栅极氧化物CMOS中Si特性的Si通道表面依赖性
作者:
Hisayo Sasaki Momose
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
26.
PARTIALLY DEPLETED SOI DYNAMIC THRESHOLD MOSFET FOR LOW-VOLTAGE AND MICROWAVE APPLICATIONS
机译:
用于低电压和微波应用的部分耗尽SOI动态阈值MOSFET
作者:
M. Dehan
;
D. Vanhoenacker-Janvier
;
J.-P. Raskin
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
27.
NOISE PROPERTIES AND HETERO-INTERFACE TRAP IN SiGe-CHANNEL PMOSFETS
机译:
SiGe通道PMOSFET的噪声特性和异质界面陷阱
作者:
Toshiaki Tsuchiya
;
Junichi Murota
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
28.
SINGLE-WAFER TECHNOLOGY IN A 300-mm WAFER FAB
机译:
300毫米晶圆晶圆中的单晶圆技术
作者:
Shuji Ikeda
;
Kazunori Nemoto
;
Michimasa Funabashi
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
29.
STATUS AND FUTURE DEVELOPMENT OF PDSOI MOSFETs
机译:
PDSOI MOSFET的现状和未来发展
作者:
Srinath Krisbnan
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
30.
CLEANING FOR SUB 0.1 μm TECHNOLOGY: A PARTICULAR CHALLENGE
机译:
小于0.1μm技术的清洁:一个特殊的挑战
作者:
D. Martin Knotter
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
31.
BiCMOS INTEGRATION OF HIGH-SPEED SiGe:C HBTs
机译:
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作者:
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;
B. Heinemann
;
R. Barth
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D. Knoll
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;
W. Winkler
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
32.
Thin Film Transistors in ULSI -Status and Future
机译:
ULSI中的薄膜晶体管-现状与未来
作者:
Yue Luo
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
33.
ELECTRODEPOSITION OF LOW-DIMENSIONAL PHASES ON Au STUDIED BYEQCM AND XRD
机译:
在二维ByQCM和XRD上对低维相进行电沉积
作者:
Curtis Shannon
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
|
2003年
34.
ANALYSIS OF CMOS GATE-TO-DRAIN LEAKAGE CURRENT AND PROPOSITION OF A NEW COBALT SALICIDE SELECTIVE ETCH CHEMISTRY FOR HIGH DRAM YIELD
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CMOS栅极至漏极泄漏电流的分析及新型用于高DRAM产量的钴水化物选择性刻蚀化学的建议
作者:
Benoit Froment
;
Christophe Regnier
;
Mane-Therese Basso
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
35.
ADVANCED MULTILEVEL INTERCONNECT TECHNOLOGIES FOR 40-nm Lg DEVICES
机译:
适用于40nm Lg器件的先进的多级互连技术
作者:
Takayuki Ohba
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
36.
ACHIEVING LOW JUNCTION CAPACITANCE ON BULK SI MOSFET USING SDOI PROCESS
机译:
使用SDOI工艺在BULK SI MOSFET上实现低结电容
作者:
Zhongze Wang
;
Todd Abbott
;
Jigish Trivedi
;
Chih-Chen Cho
;
Mike Violette
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
37.
DEFECT GENERATION AND SUPPRESSION IN DEVICE PROCESSES USING A SHALLOW TRENCH ISOLATION SCHEME
机译:
使用浅沟槽隔离方案的设备过程中的缺陷生成和抑制
作者:
VD. Peschiaroli
;
M. Brambilla
;
G. P. Carnevale
;
A. Cascella
;
F. Cazzaniga
;
C. Clementi
;
C. Cremonesi
;
A. Gilardini
;
M. Martinelli
;
A. Maurelli
;
I. Mica
;
A. Pavan
;
G. Pavia
;
F. Piazza
;
M. L. Polignano
;
V. Soncini
;
E.Bonera
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
38.
A NOVEL APPROACH TO CONTACT INTEGRATION AT 90-NM AND BEYOND
机译:
在90海里及以后接触积分的新方法
作者:
A. Singhal
;
T. Sparks
;
K. Strozewski
;
F. Huang
;
S. Parihar
;
J. Schmidt
;
B. Boeck
;
J. Fretwell
;
G. Yeap
;
V. Sheth
;
S. Veeraraghavan
;
B. Melnick
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
39.
DIFFUSED SILICON TRANSISTORS AND SWITCHES (1954-55): THE BEGINNING OF INTEGRATED CIRCUIT TECHNOLOGY
机译:
扩散硅晶体管和开关(1954-55):集成电路技术的开端
作者:
N. Holonyak
;
Jr.
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
40.
EMERGING SILICON-ON-NOTHING (SON) DEVICES TECHNOLOGY
机译:
新兴的无硅(SON)设备技术
作者:
T.Skotnicki
;
S. Monfray
;
C.Fenouillet-Beranger
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
41.
DRAM TECHNOLOGY FOR 100NM AND BEYOND
机译:
100NM及以后的DRAM技术
作者:
K. H. Kuesters
;
J. Alsmeier
;
J. Faul
;
J. Luetzen
;
T. Zell
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
42.
EMERGING DEVICE SOLUTIONS FOR THE POST-CLASSICAL CMOS ERA
机译:
后经典CMOS时代的新兴设备解决方案
作者:
Kristin De Meyer
;
Nadine Collaert
;
Stefan Kubicek
;
Anil Kottantharayil
;
Hans van Meer
;
Peter Verheyen
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
43.
HIGH-VOLT AGE CMOS AND SCALING TRENDS
机译:
高电压时代的CMOS和缩放趋势
作者:
H. Ballan
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
44.
INTEGRATED MULTISCALE PROCESS SIMULATION OF DAMASCENE STRUCTURES
机译:
大马士革结构的多尺度综合过程模拟
作者:
M.O. Bloomfield
;
Yeon Ho Im
;
Jongwon Seok
;
Cyriaque P. Sukam
;
John A. Tichy
;
Timothy S. Cale
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
45.
MODELLING END-OF-THE-ROADMAP TRANSISTORS
机译:
建模路线图终点晶体管
作者:
A. Asenov
;
A. R. Brown
;
J. R. Watling
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
46.
PERFORMANCE LIMITATIONS OF METAL INTERCONNECTS AND POSSIBLE ALTERNATIVES
机译:
金属互连和可能的替代品的性能限制
作者:
Krishna C. Saraswat Pawan Kapur
;
Shukri Souri
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
47.
PLASMA TECHNOLOGIES FOR LOW-k DRY ETCHING
机译:
用于低k干蚀刻的等离子技术
作者:
Tetsuya Tatsumi
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
48.
PROCESS STRATEGY FOR BUILT-IN RELIABILITY OF CU DAMASCENE INTERCONNECT SYSTEM FOR 0.13UM-NODE AND BEYOND
机译:
CU DAMASCENE互连系统内置可靠性的过程策略,适用于0.13UM节点和更高端
作者:
H.Yamaguchi
;
T.Oshima
;
J.Noguchi
;
K.Ishikawa
;
H.Aoki
;
T.Saito
;
T.Furusawa
;
K.Hinode
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
49.
From The Lab to The Fab: Transistors to Integrated Circuits
机译:
从实验室到晶圆厂:晶体管到集成电路
作者:
Howard R. Huff
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
50.
EXTREMELY SCALED ULTRA-THIN-BODY AND FINFET CMOS DEVICES
机译:
极小型超薄体和FINFET CMOS器件
作者:
Sriram Balasubramanian
;
Leland Chang
;
Yang-Kyu Choi
;
Daewon Ha
;
Jeongsoo Lee
;
Pushkar Ranade
;
Shiying Xiong
;
Jeffrey Bokor
;
Chenming Hu
;
Tsu-Jae King
会议名称:
《Electrochemical Society Meeting and International Symposium on ULSI Process Integration III; 20030428-20030502; Paris; FR》
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2003年
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